[实用新型]一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统

权利要求书

1.一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：

真空发生器，具有内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路用以控制液体流出内部腔室的第一阀门；

所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；

所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；

液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。

2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连接的第二真空管路；

液体缓存装置的侧壁开设连通所述过滤室与第二真空管路的第四流通口，以供气液混合物流入所述过滤室，所述侧壁开设连通所述过滤室与第一真空管路的第五流通口，以供气体流出所述过滤室。

3.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述液体缓存装置包括：所述侧壁形成用以监测所述缓存室内液体的视窗。

4.根据权利要求3所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述单片晶圆清洗的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连通的液体流入管路；

所述侧壁开设连通所述缓存室与液体流入管路的第二流通口，以供清洗液体流入所述缓存室。

5.根据权利要求4所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述液体流入管路接入控制清洗液体流入所述缓存室的第二阀门。