[实用新型]等离子处理设备

说明书

本申请公开了一种等离子处理设备，包括：机架、真空腔体及射频电源，真空腔体设置于机架上，真空腔体内设置有多个承载件，承载件为金属网格结构，承载件用于承载待处理产品；射频电源设置于机架上，用于激发真空腔内产生等离子体以除去待处理产品表面的膜层。该等离子处理设备通过金属网格结构的承载件承载产品，当真空腔体内被射频电源激发产生等离子体时，可增加感应耦合率，减少鞘层，有效提升等离子均匀性，提升残留物处理效率和产品良率。

技术领域

本申请涉及等离子蚀刻设备技术领域，具体涉及一种等离子处理设备。

背景技术

产品加工过程中，常常采用激光处理产品，例如，使用激光去除产品表面特定位置的离子镀膜或阳极膜，但是，激光处理后的产品表面常常存在残留物，外观不佳。也有采用物理方式抛光移除产品表面特定位置的离子镀膜或阳极膜，效率低且易刮伤产品。

实用新型内容

鉴于以上内容，有必要提出一种等离子处理设备，以实现快速去除产品表面的膜层。

本申请的实施例提供了一种等离子处理设备，包括：机架；真空腔体，设置于所述机架上，所述真空腔体内设置有多个承载件，所述承载件为金属网格结构，所述承载件用于承载待处理产品；射频电源，设置于所述机架上，用于激发所述真空腔内产生等离子体以除去所述待处理产品表面的膜层。

进一步地，所述产品与所述承载件电接触。

进一步地，所述射频电源采用双频电源。

进一步地，所述双频电源的频率分别为13.56MHz和4.52MHz。

进一步地，所述等离子处理设备还包括偏压电源，所述偏压电源用于为所述真空腔体提供偏压。

进一步地，所述偏压电源包括线圈，所述线圈套设于所述真空腔体的外壁上，所述线圈有多个，多个所述线圈与多个所述承载件对应。

进一步地，所述真空腔体的内侧壁设置有多个间隔设置的承载部，所述承载部与所述承载件对应，每个所述承载部用于承载对应的承载件。

进一步地，所述等离子处理设备还包括气泵，所述气泵与所述真空腔体连接，用于向所述真空腔体内输送气体。

进一步地，所述等离子处理设备还包括真空泵和真空检测器，所述真空泵用于抽取所述真空腔体内的气体以使所述真空腔呈现负压状态，所述真空检测器与所述真空腔体连通以测试所述真空腔体的气压。

进一步地，所述等离子处理设备还包括天线，所述天线设于所述机架上且与所述真空腔体电连接。

本申请的等离子处理设备，用于快速去除产品表面的膜层，通过金属网格结构的承载件承载产品，当真空腔体内被射频电源激发产生等离子体时，金属网格结构可增加感应耦合率，减少鞘层，有效提升等离子均匀性，提升产品表面的膜层的处理效率和产品良率。

附图说明

图1是本申请一实施例提供的等离子处理设备的结构示意图。

图2是本申请一实施例提供的等离子处理设备的部分结构示意图。

图3是本申请一实施例提供的真空腔体的结构示意图。

图4是本申请一实施例提供的承载件的结构示意图。

图5是本申请一实施例提供的射频电源处理真空腔体的示意图。

图6是本申请一实施例提供的偏压电源处理真空腔体的示意图。

主要元件符号说明

等离子处理设备 100

机架 10