[实用新型]光刻胶喷涂用供液装置及超声波喷头组件

说明书

本申请提供一种光刻胶喷涂用供液装置及超声波喷头组件，涉及芯片加工技术领域。光刻胶喷涂用供液装置包括第一注射泵、第二注射泵、第一控制阀和第二控制阀。第一注射泵用于泵送光刻胶，第一注射泵通过管道与第一控制阀、第二控制阀依次连接。第二注射泵用于泵送清洗液，第二注射泵通过管道与第一控制阀、第二控制阀依次连接。第一控制阀用于控制第一注射泵或者第二注射泵与第二控制阀的通断，第二控制阀用于控制与超声喷头的通断。光刻胶喷涂用供液装置使得超声波喷头组件的超声喷头能够根据实际情况进行光刻胶喷涂或者进行自身的冲洗清洁，满足生产需求。

技术领域

本申请涉及芯片加工技术领域，具体涉及一种光刻胶喷涂用供液装置及超声波喷头组件。

背景技术

针对MEMS传感器等带有沟槽结构的芯片，超声波喷涂光刻胶相较于旋涂更具优势，因此目前获得了广泛的关注。

为了实现光刻胶均匀一致的喷涂，光刻胶需要精确计量并提供给超声波喷头，同时超声波喷头也需要经常清洗，避免喷头的堵塞。

实用新型内容

本申请的目的在于提供一种光刻胶喷涂用供液装置，其能够用于改善现有的超声波喷头不方便经常清洗的问题。

本申请的另外一个目的在于提供一种超声波喷头组件，其具有上述光刻胶喷涂用供液装置的全部特性。

本申请的实施例是这样实现的：

本申请的实施例提供了一种光刻胶喷涂用供液装置，包括：第一注射泵、第二注射泵、第一控制阀和第二控制阀；

所述第一注射泵用于泵送光刻胶，所述第一注射泵通过管道与所述第一控制阀、所述第二控制阀依次连接；

所述第二注射泵用于泵送清洗液，所述第二注射泵通过管道与所述第一控制阀、所述第二控制阀依次连接；

所述第一控制阀用于控制所述第一注射泵或者所述第二注射泵与所述第二控制阀的通断，所述第二控制阀用于控制与超声喷头的通断。

另外，根据本申请的实施例提供的光刻胶喷涂用供液装置，还可以具有如下附加的技术特征：

在本申请的可选实施例中，所述光刻胶喷涂用供液装置包括光刻胶罐和第三控制阀，所述第三控制阀用于控制所述光刻胶罐与所述第一注射泵连通或者断开。

在本申请的可选实施例中，所述光刻胶喷涂用供液装置包括清洗液罐和第四控制阀，所述第四控制阀用于控制所述清洗液罐与所述第二注射泵连通或者断开。

在本申请的可选实施例中，所述第一注射泵和/或第二注射泵的供液流量范围为0.01ml/min-20ml/min。

在本申请的可选实施例中，所述第一控制阀为气动或者电动三通阀。

在本申请的可选实施例中，所述第二控制阀为气动或者电动通断阀。

本申请的实施例提供了一种超声波喷头组件，包括：超声喷头、超声波发生器和根据上述任一项所述的光刻胶喷涂用供液装置，所述超声波发生器与所述超声喷头电连接，所述光刻胶喷涂用供液装置的所述第二控制阀与所述超声喷头连接。

在本申请的可选实施例中，所述超声波发生器的超声波频率为60-200KHz。

本申请的有益效果是：

本申请的光刻胶喷涂用供液装置通过第一注射泵供应光刻胶，通过第二注射泵提供清洗液，并通过第一控制阀使得第一注射泵和第二注射泵能够分别按需接通第二控制阀，第二控制阀则可以按需接通超声喷头，使得超声波喷头组件的超声喷头能够根据实际情况进行光刻胶喷涂或者进行自身的冲洗清洁，满足生产需求。

附图说明