[实用新型]一种晶圆平移机构及反应装置

说明书

本申请提供了一种晶圆平移机构及反应装置，涉及晶圆移动领域。所述晶圆平移机构包括：第一连接板、第一连接部、第一滑动组件、第二滑动组件、托盘、无杆气缸、第一惰轮组件、第二惰轮组件和过渡室，所述第一连接板上安装所述第一滑动组件，所述第一连接板上安装所述第二滑动组件，所述第二滑动组件上安装所述第一连接部，所述第一连接部上设置所述托盘，所述无杆气缸安装在所述过渡室内，所述无杆气缸的移动体与所述第一连接板相连，所述第一惰轮组件和所述第二惰轮组件均安装在所述第一连接板上。所述反应装置包括所述晶圆平移机构。通过第一惰轮组件和第二惰轮组件能将晶圆输送到更远的位置，提高晶圆输送效率。

技术领域

本申请涉及晶圆移动领域，尤其涉及一种晶圆平移机构及反应装置。

背景技术

在原有的MOCVD(金属有机化合物化学气相沉淀)的技术中需要用到真空机械手加传输腔来完成晶圆的搬运动作，一般的传片模式是配置过渡腔与传输腔来使用，本身的过渡腔不具备传片功能，由于真空机械手的成本过高，且使用频率不高，因此需要一种平移搬运机构来代替机械手取放晶圆的功能。

传统的金属有机化合物化学气相沉淀设备难以通过一套简单且小型的驱动结构增大晶圆移动的距离，不利于提高晶圆的输送效率，因此需要一种平移机构能将晶圆输送到更远的位置，提高晶圆输送效率。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种晶圆平移机构及反应装置。

本实用新型提供如下技术方案：

第一方面，提供一种晶圆平移机构，包括：第一连接板、第一连接部、第一滑动组件、第二滑动组件、托盘、无杆气缸、第一惰轮组件、第二惰轮组件和过渡室，所述第一连接板上安装所述第一滑动组件，所述第一滑动组件端部穿设在所述过渡室内，所述第一连接板上安装所述第二滑动组件，所述第二滑动组件上安装所述第一连接部，所述第一连接部上设置所述托盘，所述无杆气缸安装在所述过渡室内，所述无杆气缸的移动体与所述第一连接板相连，所述第一惰轮组件和所述第二惰轮组件均安装在所述第一连接板上，所述第一惰轮组件和所述第二惰轮组件均与所述第一连接部和所述过渡室相连，所述第一惰轮组件用于在所述无杆气缸驱动所述第一连接板移动靠近所述过渡室时，带动所述第一连接部和所述托盘向靠近所述过渡室的一侧移动；所述第二惰轮组件用于在所述无杆气缸驱动所述第一连接板移动远离所述过渡室时，带动所述第一连接部和所述托盘向远离所述过渡室的一侧移动。

结合第一方面，在一种可能的实施方式中，所述第一惰轮组件包括第一惰轮、第一皮带、第一固定块和第二固定块，所述第一固定块设于所述过渡室内，所述第一惰轮设于所述第一连接板上且位于所述第一固定块远离所述过渡室开口的一侧，所述第二固定块设于所述第一连接部上远离所述过渡室的一侧，所述第一惰轮上绕设所述第一皮带，所述第一皮带的两端分别固定在所述第一固定块和所述第二固定块上。

结合第一方面，在一种可能的实施方式中，所述第二惰轮组件包括第二惰轮、第二皮带、第三固定块和第四固定块，所述第三固定块设于所述过渡室内，所述第四固定块设于所述第一连接部上，所述第二惰轮设于所述第一连接板上且位于所述第四固定块远离所述过渡室开口的一侧，所述第二惰轮上绕设所述第二皮带，所述第二皮带的两端分别固定在所述第三固定块和所述第四固定块上。

结合第一方面，在一种可能的实施方式中，所述第一滑动组件包括第一导轨和第一滑块，所述过渡室内固定安装固定座，所述固定座上安装所述第一导轨，所述第一导轨上滑动连接所述第一滑块，所述第一滑块与所述第一连接板固定连接。

结合第一方面，在一种可能的实施方式中，所述第一滑块为长条形滑块，且所述第一滑块的长度与所述第一连接板的长度相近。

结合第一方面，在一种可能的实施方式中，所述第二滑动组件包括第二导轨和第二滑块，所述第一连接板顶面固定安装所述第二导轨，所述第二导轨上滑动连接所述第二滑块，所述第二滑块与所述第一连接部固定连接。