[实用新型]一种带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备有效

专利信息
申请号: 202220418310.5 申请日: 2022-02-28
公开(公告)号: CN216891199U 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 朱刚劲;朱刚毅 申请(专利权)人: 广东腾胜科技创新有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 东莞高瑞专利代理事务所(普通合伙) 44444 代理人: 杨英华
地址: 526000 广东省肇庆市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 带覆膜撕膜 装置 真空 卷绕 镀膜 设备
【权利要求书】:

1.一种带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:包括真空容器(1)、设于真空容器(1)内的放卷系统(2)、镀膜辊(3)、覆膜卷(4)、撕膜卷(5)及收卷系统(6),放卷系统(2)上缠绕有基材(7),该基材(7)经过镀膜辊(3)后复卷在收卷系统(6)上,覆膜卷(4)上缠绕有保护膜(8),该保护膜(8)贴合在基材(7)的其中一表面经过镀膜辊(3)后复卷在撕膜卷(5)上,在镀膜辊(3)的外侧设有用于磁控溅射的磁控靶(9)。

2.根据权利要求1所述的带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:在镀膜辊(3)与撕膜卷(5)及覆膜卷(4)之间的位置设有导辊(10),所述基材(7)和保护膜(8)贴合后绕过该导辊(10)。

3.根据权利要求2所述的带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:所述真空容器(1)内设有贴合辊(11),所述贴合辊(11)与导辊(10)配合挤压保护膜(8)与基材(7)。

4.根据权利要求1至3任一所述的带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:所述镀膜辊(3)、覆膜卷(4)、撕膜卷(5)和磁控靶(9)设置为两个,所述基材(7)依次经过镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)后缠绕在收卷系统(6)上,覆膜卷一(41)上的保护膜(8)经镀膜辊一(31)贴合在基材(7)的其中一表面上后绕过镀膜辊一(31)复卷至撕膜卷一(51)中,覆膜卷二(42)上的保护膜(8)经镀膜辊二(32)贴合在基材(7)的另一表面上后绕过镀膜辊二(32)复卷至撕膜卷二(52)中,磁控靶一(91)和磁控靶二(92)设在镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)的外圆周上。

5.根据权利要求4所述的带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:所述真空容器(1)上设有真空抽气系统(12)。

6.根据权利要求5所述的带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,其特征在于:所述真空容器(1)上设有真空测量系统(13)。

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