[实用新型]用于半导体器件加工设备的上料机构有效

专利信息
申请号: 202220225798.X 申请日: 2022-01-27
公开(公告)号: CN217334020U 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 黄日成 申请(专利权)人: 佛山市佳丽美电子科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 佛山高业知识产权代理事务所(普通合伙) 44562 代理人: 李贵梅
地址: 528000 广东省佛山市南海区丹灶*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 半导体器件 加工 设备 机构
【权利要求书】:

1.用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,包括基板升降装置(1)、上料轨道(2)和上料装置(3),所述基板升降装置(1)包括通过第一伸缩杆(10)设于工作台上端面的物料台(11),所述物料台(11)的四周环设有若干根挡杆(12),所述上料轨道(2)设于上料装置(3)和基板升降装置(1)之间,所述上料轨道(2)通过支撑台(20)齐平设于基板升降装置(1)内侧,所述上料轨道(2)上端面设有推料臂(21),所述上料装置(3)包括上料台(30)和横设于上料轨道(2)上端面的上料手臂(31),所述上料手臂(31)包括第二伸缩杆(32)和夹料手(33),所述上料轨道(2)和夹料手(33)均设有传感器。

2.根据权利要求1所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述基板升降装置(1)通过底部的金属板(13)固定于工作台上,所述金属板(13)上端面四边均设有至少一根的挡杆(12),所述第一伸缩杆(10)设于金属板(13)的中央,所述物料台(11)四周设有与挡杆(12)对相应的导向槽(14),所述物料台(11)通过导向槽(14)设于挡杆(12)之间。

3.根据权利要求1所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述上料轨道(2)设于支撑台(20)上端面,所述上料轨道(2)包括第一轨道(22)和第二轨道(23),所述第一轨道(22)靠近基板升降装置(1)设置,所述第二轨道(23)靠近上料装置(3)设置,所述第二轨道(23)的宽度大于第一轨道(22)的宽度,所述第一轨道(22)和第二轨道(23)互相靠近一侧均设有L型送料槽(24)。

4.根据权利要求3所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述第二轨道(23)上端面靠近上料装置(3)一侧设有皮带(25)和驱动皮带(25)的驱动电机(26),所述皮带(25)套设有连接块(250),所述推料臂(21)通过连接块(250)设于L型送料槽(24)上端面。

5.根据权利要求1所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述推料臂(21)的下端面设有导向块(27),所述导向块(27)套设于导向杆(28)上,所述导向杆(28)设于第二轨道(23)的上端面,所述导向杆(28)设于皮带(25)靠近第一轨道(22)的一侧。

6.根据权利要求3所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述第一轨道(22)靠近第二轨道(23)的一侧下端面设有感应方向朝上的第一传感器(29)。

7.根据权利要求1所述的用于半导体器件加工设备的上料机构,其特征在于,所述上料台(30)设有朝基板升降装置(1)延伸的第二伸缩杆(32),所述第二伸缩杆(32)一端设有夹料手(33),所述夹料手(33)包括连接第二伸缩杆(32)的连接板(37)、设于连接板(37)下端面的伸缩气缸(34)和设于伸缩气缸(34)下端部外侧面的上料夹(35),所述伸缩气缸(34)的内侧均设有第二传感器(36)。

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