[实用新型]一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置

说明书

本实用新型公开一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。本实用新型能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。

技术领域

本实用新型属于治具装置技术领域，具体涉及一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置。

背景技术

接触式曝光是指掩膜光罩直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜光罩上的图形分辨率相当。然而，针对高分辨率(线宽小于2um(微米))的掩膜光罩线路，基材厚度通常为13～200微米，如果使用非真空接触式曝光，则无法让基材在掩模版中间吸附平整，曝光时就会出现重影1和/或锯齿2的问题(如图1、图2所示)。重影1是指曝光后的线路出现阶梯型结构，及大小双层线路。锯齿2是指曝光后的线路边缘出现类似锯齿边。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。

在一个具体实施例中，所述第二固定治具上设置有与所述第一镂空部呈相对布置的第二镂空部，所述第二镂空部的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩的第一侧面，所述柔性基材通过真空吸附在所述第二掩膜光罩的第二侧面和所述第一掩膜光罩的第二侧面之间。

在一个具体实施例中，所述第一固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第一回字形真空槽，所述第一回字形真空槽环绕设置在所述第一镂空部的外部。

在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第一真空孔。

在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架形成所述第一镂空部的框架，所述第一回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第一掩膜光罩真空槽，所述第一掩膜光罩通过所述第一掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第一回字形真空槽的内部框架上。

在一个具体实施例中，所述第一掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第二真空孔。

在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架的顶面与所述第一回字形真空槽的底面的距离小于所述第一固定治具的内表面与所述第一回字形真空槽的底面的距离。

在一个具体实施例中，所述第二固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第二回字形真空槽，所述第二回字形真空槽环绕设置在所述第二镂空部的外部。

在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的内部框架形成所述第二镂空部的框架，所述第二回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第二掩膜光罩真空槽，所述第二掩膜光罩通过所述第二掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第二回字形真空槽的内部框架上。

在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第三真空孔。

在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽与所述第一回字形真空槽呈相对布置。