[实用新型]一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置

权利要求书

1.一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具(3)、第一掩膜光罩(4)、第二固定治具(5)和真空泵(6)；所述第一固定治具(3)用于装载所述第一掩膜光罩(4)并与所述真空泵(6)连接；所述第一固定治具(3)上设置有第一镂空部(31)；所述第一掩膜光罩(4)的第一侧面(41)通过真空吸附在所述第一镂空部(31)的框架内表面上；所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材(7)。

2.根据权利要求1所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)上设置有与所述第一镂空部(31)呈相对布置的第二镂空部(52)，所述第二镂空部(52)的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩(8)的第一侧面(81)，所述柔性基材(7)通过真空吸附在所述第二掩膜光罩(8)的第二侧面(82)和所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)之间。

3.根据权利要求2所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一固定治具(3)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第一回字形真空槽(33)，所述第一回字形真空槽(33)环绕设置在所述第一镂空部(31)的外部。

4.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一真空孔(331)。

5.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)形成所述第一镂空部(31)的框架，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一掩膜光罩真空槽(333)，所述第一掩膜光罩(4)通过所述第一掩膜光罩真空槽(333)内的真空吸附在所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上。

6.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一掩膜光罩真空槽(333)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第二真空孔(3331)。

7.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)的顶面与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离小于所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第二回字形真空槽(53)，所述第二回字形真空槽(53)环绕设置在所述第二镂空部(52)的外部。

9.根据权利要求8所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)形成所述第二镂空部(52)的框架，所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)上设置有与所述真空泵(6)相连通的第二掩膜光罩真空槽(532)，所述第二掩膜光罩(8)通过所述第二掩膜光罩真空槽(532)内的真空吸附在所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)上。

10.根据权利要求9所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二掩膜光罩真空槽(532)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第三真空孔(5321)。