[实用新型]一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构有效

专利信息
申请号: 202220045744.5 申请日: 2022-01-10
公开(公告)号: CN216719818U 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 李春香;赵芳 申请(专利权)人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664;H01H33/662;H01H11/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 黄建祥
地址: 721016 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室 屏蔽 固定 结构
【权利要求书】:

1.一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,所述真空灭弧室包括瓷壳(1)和屏蔽筒(2),其特征在于,

所述瓷壳(1)的内壁中部设有环形凸台(11),所述屏蔽筒(2)的外壁与所述环形凸台(11)的端面(113)抵接,以使所述屏蔽筒(2)与所述瓷壳(1)同轴连接;

所述屏蔽筒(2)外壁上设有第一限位凸起(21)和第二限位凸起(22);

所述屏蔽筒(2)套接在所述瓷壳(1)的内侧,所述第一限位凸起(21)与所述环形凸台(11)的第一侧面(111)卡接,所述第二限位凸起(22)与所述环形凸台(11)的第二侧面(112)卡接。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)包括一个局部凸起,所述局部凸起与所述第一侧面(111)卡接。

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)包括至少两个局部凸起,多个所述局部凸起均位于同一径向截面内,且沿所述屏蔽筒(2)的周向等夹角均匀设置。

4.根据权利要求2所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述局部凸起为半球形。

5.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)为环状凸起。

6.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)包括一个局部凸起,所述局部凸起与所述第二侧面(112)卡接。

7.根据权利要求6所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)包括至少两个局部凸起,多个所述局部凸起均位于同一径向截面内,且沿所述屏蔽筒(2)的周向等夹角均匀设置。

8.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)为环状凸起。

9.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述环形凸台(11)的所述端面(113)上设有定位结构,以使所述瓷壳(1)和所述屏蔽筒(2)的同轴度φ0.5mm。

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