[实用新型]一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构有效
申请号: | 202220045744.5 | 申请日: | 2022-01-10 |
公开(公告)号: | CN216719818U | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 李春香;赵芳 | 申请(专利权)人: | 陕西宝光真空电器股份有限公司 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664;H01H33/662;H01H11/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 黄建祥 |
地址: | 721016 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 灭弧室 屏蔽 固定 结构 | ||
1.一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,所述真空灭弧室包括瓷壳(1)和屏蔽筒(2),其特征在于,
所述瓷壳(1)的内壁中部设有环形凸台(11),所述屏蔽筒(2)的外壁与所述环形凸台(11)的端面(113)抵接,以使所述屏蔽筒(2)与所述瓷壳(1)同轴连接;
所述屏蔽筒(2)外壁上设有第一限位凸起(21)和第二限位凸起(22);
所述屏蔽筒(2)套接在所述瓷壳(1)的内侧,所述第一限位凸起(21)与所述环形凸台(11)的第一侧面(111)卡接,所述第二限位凸起(22)与所述环形凸台(11)的第二侧面(112)卡接。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)包括一个局部凸起,所述局部凸起与所述第一侧面(111)卡接。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)包括至少两个局部凸起,多个所述局部凸起均位于同一径向截面内,且沿所述屏蔽筒(2)的周向等夹角均匀设置。
4.根据权利要求2所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述局部凸起为半球形。
5.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第一限位凸起(21)为环状凸起。
6.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)包括一个局部凸起,所述局部凸起与所述第二侧面(112)卡接。
7.根据权利要求6所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)包括至少两个局部凸起,多个所述局部凸起均位于同一径向截面内,且沿所述屏蔽筒(2)的周向等夹角均匀设置。
8.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述第二限位凸起(22)为环状凸起。
9.根据权利要求1所述的真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,其特征在于,所述环形凸台(11)的所述端面(113)上设有定位结构,以使所述瓷壳(1)和所述屏蔽筒(2)的同轴度φ0.5mm。
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