[实用新型]一种半导体芯片湿法刻蚀装置有效

专利信息
申请号: 202220013001.X 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN216719882U 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 沈德波 申请(专利权)人: 丹东安顺微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙) 11825 代理人: 刘文骞
地址: 118000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 芯片 湿法 刻蚀 装置
【说明书】:

实用新型涉及一种半导体芯片湿法刻蚀装置,包括加工箱,加工箱内设置有加工腔,加工腔的顶部设置有多组喷头,加工腔内沿水平方向设置有安装板,安装板的上端面设置有可沿水平方向滑动的托板,托板的上端面转动连接有多组立柱,立柱的顶端轴向固定有安放台,安装板的下端面设置有多组微型伺服电机,安装板和喷头之间设置有井字型隔板,喷头、井字型隔板与立柱配合设置,托板的上端面边缘处固定有挡板,挡板之间首位连接,挡板和托板之间形成收集槽。喷头、安放台和井字隔板的设计,可同时加工多组不同尺寸的芯片,避免不同芯片上的处理液飞溅互相影响,大大提高加工效率;托板和安装板的设计,可方便取放芯片。

技术领域

本实用新型涉及刻蚀设备技术领域,更具体地说,涉及一种半导体芯片湿法刻蚀装置。

背景技术

现有技术中,半导体芯片湿法刻蚀加工过程中,一般是将待加工的芯片固定在一处,通过喷嘴将处理液喷射到芯片上,为了防止处理液飞溅到其它芯片上,一般一次处理单个芯片或将多个芯片远距离放置,加工效率较低,且芯片的取放极为不便,本实用新型针对以上问题提出了一种新的解决方案。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种半导体芯片湿法刻蚀装置,以解决背景技术中所提到的技术问题。

为解决上述问题,本实用新型采用如下的技术方案。

一种半导体芯片湿法刻蚀装置,包括加工箱,所述加工箱内设置有加工腔,加工腔的顶部设置有多组喷头,加工腔内沿水平方向设置有安装板,安装板与加工腔滑动连接,安装板的上端面设置有可沿水平方向滑动的托板,托板的上端面转动连接有多组立柱,立柱的顶端轴向固定有安放台,立柱的底端穿过托板,且立柱的底端设置有安装槽,安装槽内设置有可沿竖直方向滑动的矩型磁性金属块,矩型磁性金属块的上端面固定有复位弹簧,复位弹簧的顶端固定在安装槽内,安装板的下端面四角处分别设置有液压臂,液压臂的的底部固定在加工腔的底部,安装板的下端面设置有多组微型伺服电机,微型伺服电机的顶部输出端固定有定位柱,定位柱的顶端与安装板转动连接,且定位柱的顶端设置有定位槽,定位槽内固定有电磁铁,且电磁铁与矩型磁性金属块配合设置,安装板和喷头之间设置有井字型隔板,喷头、井字型隔板与立柱配合设置,井字型隔板固定在加工腔的顶部,托板的上端面边缘处固定有挡板,挡板之间首位连接,挡板和托板之间形成收集槽,加工箱的侧壁上设置有开口,开口上滑动连接有电动门扇,加工箱的侧壁上设置有控制器,控制器分别与喷头、液压臂、微型伺服电机、电磁铁电性连接。

优选的是,所述收集槽内设置有收集斗,收集斗的底部输出端可拆卸连接有存液罐,其中一块所述挡板上设置有取放口。

在上述任一方案中优选的是,所述存液罐与所述收集斗螺纹连接。

在上述任一方案中优选的是,所述安放台的上端面设置有真空吸盘,真空吸盘与所述控制器电性连接。

在上述任一方案中优选的是,所述加工箱的上端面设置有储存罐和输送泵,输送泵的输入端与储存罐连通,输送泵的输出端与所述喷头连通,输送泵与所述控制器电性连接。

在上述任一方案中优选的是,所述储存罐上设置有补液口,补液口上设置有控制阀和进气阀。

在上述任一方案中优选的是,所述加工箱的侧壁上设置有检修口,检修口上螺栓连接有检修盖。

在上述任一方案中优选的是,所述检修盖上设置有扣手。

在上述任一方案中优选的是,所述加工箱的下端面四角处分别设置有制动万向轮,制动万向轮上设置有橡胶垫。

在上述任一方案中优选的是,所述加工箱的侧壁上设置有扶手。

相比于现有技术,本实用新型的优点在于:

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