[实用新型]一种碳化硅超微粉研磨装置

说明书

本实用新型公开了一种碳化硅超微粉研磨装置，涉及研磨装置技术领域，包括底板和设置在底板顶面的龙门架，龙门架顶部设有液压缸，液压缸的活动端活动贯穿至龙门架底部，电机箱内设有驱动电机，驱动电机的输出轴端设有联轴器，联轴器底部设有连接杆，连接杆底部设有上研磨盘，底板顶面配合上研磨盘设有下研磨盘；本实用新型通过上研磨盘和下研磨盘的顶部的研磨是V形状，从而增大碳化硅在上研磨盘和下研磨盘的滚动路程，同时能够减缓碳化硅在上研磨盘和下研磨盘之滚动的速率，进一步便于对碳化硅进行研磨，使研磨后的碳化硅粉更细，从而提高碳化硅粉的质量，同时提高碳化硅粉的研磨的效率。

技术领域

本实用新型涉及研磨装置技术领域，尤其涉及一种碳化硅超微粉研磨装置。

背景技术

碳化硅陶瓷是一种共价键性极高的材料，硬度高、耐化学腐蚀、抗氧化性能好、热膨胀系数小、热传导率高以及半导体性良好。碳化硅陶瓷因具有诸多优良的特性而应用广泛，在高温结构部件等方面有巨大的发展潜力。美国和德国分别采用无压烧结与反应烧结SiC陶瓷来制造发动机的定子、转子、燃烧器及涡形管，都取得良好的结果。日本东芝陶瓷采用常压烧结SiC制品，产品包含耐热部件，机械部件，半导体用部件，电磁波用部件，耐腐蚀部件和导电性部件。这些可靠性高、形状复杂的陶瓷部件主要通过新型胶态成型方法制备。

在制备过程中，需要使用研磨装置将碳化硅颗粒研磨成碳化硅微粉，但是现有的研磨装置不能有效的对固态原料进行研磨，导致研磨后的粉末中还含有不合格的粉末，从而影响粉末的使用；因此，需对上述问题进行解决优化。

发明内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种碳化硅超微粉研磨装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种碳化硅超微粉研磨装置，包括底板和设置在底板顶面的龙门架，所述龙门架顶部设有液压缸，所述液压缸的活动端活动贯穿至龙门架底部，所述液压缸的活动端设有电机箱，所述电机箱内设有驱动电机，所述驱动电机的输出轴活动贯穿电机箱底部，所述驱动电机的输出轴端设有联轴器，所述联轴器底部设有连接杆，所述连接杆底部设有上研磨盘，所述底板顶面配合上研磨盘设有下研磨盘，所述上研磨盘顶面设有导料槽，所述导料槽底面边缘处环形等间距设有多个进料槽，所述下研磨盘的底面中部设有出料槽。

优选地，所述导料槽为中部高边缘低的槽，所述进料槽底部贯穿出上研磨盘底部外。

优选地，所述出料槽为类V形状结构，所述底板底面一侧设有与出料槽连通的出料管。

优选地，所述下研磨盘的研磨面顶部为多组开口向下的V形面A组成，所述上研磨盘的研磨面顶部为多组开口向下的V形面B组成，所述V形面A与V形面B相互配合，所述V形面A与V形面B内侧面均环形等间距设有多个研磨凸起。

优选地，所述底板底面四角处均设有支撑腿，所述支撑腿底部设有防滑垫。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过上研磨盘和下研磨盘的顶部的研磨是V形状，从而增大碳化硅在上研磨盘和下研磨盘的滚动路程，同时能够减缓碳化硅在上研磨盘和下研磨盘之滚动的速率，进一步便于对碳化硅进行研磨，使研磨后的碳化硅粉更细，从而提高碳化硅粉的质量，同时提高碳化硅粉的研磨的效率；通过研磨凸起的使用，增大V形面A与V形面B的粗糙度，从而便于对碳化硅更加有效的研磨，进一步提高碳化硅研磨的效率。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型的正视角的外观结构示意图；

图2为本实用新型的正视角的剖面结构示意图；

图3为图2中A处的局部放大图；