[实用新型]一种碳化硅超微粉研磨装置有效
| 申请号： | 202220004435.3 | 申请日： | 2022-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN216704538U | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 杨天宇;崔怀江;杨涵 | 申请（专利权）人： | 青州宇信陶瓷材料有限公司 |
| 主分类号： | B02C7/08 | 分类号： | B02C7/08;B02C7/12;B02C7/16;B02C7/11 |
| 代理公司： | 潍坊领潮知识产权代理有限公司 37376 | 代理人： | 李晶 |
| 地址： | 261000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 超微粉 研磨 装置 | ||
1.一种碳化硅超微粉研磨装置，包括底板（1）和设置在底板（1）顶面的龙门架（2），其特征在于：所述龙门架（2）顶部设有液压缸（3），所述液压缸（3）的活动端活动贯穿至龙门架（2）底部，所述液压缸（3）的活动端设有电机箱（4），所述电机箱（4）内设有驱动电机（11），所述驱动电机（11）的输出轴活动贯穿电机箱（4）底部，所述驱动电机（11）的输出轴端设有联轴器，所述联轴器底部设有连接杆（5），所述连接杆（5）底部设有上研磨盘（6），所述底板（1）顶面配合上研磨盘（6）设有下研磨盘（7），所述上研磨盘（6）顶面设有导料槽（10），所述导料槽（10）底面边缘处环形等间距设有多个进料槽（9），所述下研磨盘（7）的底面中部设有出料槽（8）。
2.根据权利要求1所述的一种碳化硅超微粉研磨装置，其特征在于：所述导料槽（10）为中部高边缘低的槽，所述进料槽（9）底部贯穿出上研磨盘（6）底部外。
3.根据权利要求1所述的一种碳化硅超微粉研磨装置，其特征在于：所述出料槽（8）为类V形状结构，所述底板（1）底面一侧设有与出料槽（8）连通的出料管（12）。
4.所述根据权利要求1所述的一种碳化硅超微粉研磨装置，其特征在于：所述下研磨盘（7）的研磨面顶部为多组开口向下的V形面A组成，所述上研磨盘（6）的研磨面顶部为多组开口向下的V形面B组成，所述V形面A与V形面B相互配合，所述V形面A与V形面B内侧面均环形等间距设有多个研磨凸起（13）。
5.所述根据权利要求1所述的一种碳化硅超微粉研磨装置，其特征在于：所述底板（1）底面四角处均设有支撑腿，所述支撑腿底部设有防滑垫。
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