[发明专利]一种石英晶片抛光装置及抛光方法

权利要求书

1.一种石英晶片抛光装置，其特征在于：包括双面抛光机(1)和供液结构；所述双面抛光机(1)的背面设置有供液结构；

所述供液结构包括储液箱(2)、水泵(3)、供液管(4)、储气罐(5)、抽气泵(6)、一号气管(7)和空心立杆(8)；所述双面抛光机(1)的背面设置有储液箱(2)，所述储液箱(2)的内部灌装有抛光液，所述储液箱(2)的顶面安装有水泵(3)，所述水泵(3)的进水端连通储液箱(2)的底部，所述水泵(3)的出水端连通有供液管(4)，所述供液管(4)的顶端连通双面抛光机(1)的上工作盘，所述储液箱(2)的一侧设置有储气罐(5)，所述储气罐(5)通过气瓶灌装有氩气，所述储气罐(5)的一侧固接有抽气泵(6)，所述抽气泵(6)的进气端连通储气罐(5)的内部，所述抽气泵(6)的出气端连通有一号气管(7)，所述储液箱(5)的顶面固接有空心立杆(8)，所述空心立杆(8)的底端伸入储液箱(2)的内部，且空心立杆(8)的外圈均匀开设有多个气槽(9)，所述空心立杆(8)的顶端与一号气管(7)的端头连通，所述一号气管(7)的中部设置有单向阀，且单向阀的方向指向空心立杆(8)。

2.根据权利要求1所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述空心立杆(8)的外圈均匀固接有多个弧形导板(10)，所述弧形导板(10)与气槽(9)交替分布。

3.根据权利要求2所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：相邻所述弧形导板(10)之间固接有多个隔板(11)，所述隔板(11)与气槽(9)交替分布。

4.根据权利要求1所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述储气罐(5)的内部底面固接有水桶(12)，所述水桶(12)的内部灌装有纯水，所述储气罐(5)的顶面固接有二号气管(13)，所述二号气管(13)贯穿储气罐(5)的顶面，且二号气管(13)的底端伸入水桶(12)的底部，所述二号气管(13)的顶端连通储气罐(5)的顶部，所述二号气管(13)的中部设置有单向阀，且单向阀的方向指向储气罐(5)。

5.根据权利要求4所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述水桶(12)的内壁螺旋状固接有多个挡板(14)。

6.根据权利要求4所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述储气罐(5)的底部一侧开设有排水口(15)，所述排水口(15)的内部固接有阀体(16)，所述阀体(16)的内部滑动安装有密封块(17)，所述密封块(17)的顶端固接有滑杆(18)，所述滑杆(18)滑动贯穿阀体(16)的顶部，所述滑杆(18)的顶端铰接有连杆(19)，所述连杆(19)远离滑杆(18)的一端固接有浮球(20)。

7.根据权利要求1所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述储气罐(5)的内壁均匀固接有多个加强筋(21)，所述加强筋(21)的截面为尖锥形，且表面开设有多个竖直凹槽。

8.根据权利要求1所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述储液箱(2)的一侧设置有底座(22)，所述底座(22)的四角均开设有一对直槽(23)，每对所述直槽(23)的顶部均滑动安装有夹块(24)，所述夹块(24)与直槽(23)之间通过螺栓固接，多个所述夹块(24)的内圈与储气罐(5)的外圈滑动配合。

9.根据权利要求8所述的一种石英晶片抛光装置，其特征在于：所述供液管(4)与一号气管(7)的中部均连通有连接环(25)，两个所述连接环(25)之间连通有连接管(26)，所述连接管(26)的中部设置电动阀门(27)，且电动阀门(27)的方向指向供液管(4)。

10.一种石英晶片抛光方法，其特征在于：该抛光方法采用权利要求1-9中任意一项所述的一种石英晶片抛光装置，且抛光方法包括以下步骤：

S1：将纯水注入储气罐(5)内部的水桶(12)内，将装有氩气的气瓶连接储气罐(5)，为储气罐(5)的内部灌入氩气，启动抽气泵(6)，将储气罐(5)内部的氩气注入储液箱(2)的内部，将储液箱(2)内部的空气排尽；

S2：在无菌车间内配置抛光液，将配置好的抛光液灌入储液箱(2)的内部，由于氩气的密度大于空气的密度，从而阻挡空气进入储液箱(2)的内部；

S3：氩气由空心立杆(8)进入储液箱(2)内部的抛光液时，受到隔板(11)的分割，弧形导板(10)的阻挡导向，使得抛光液在储液箱(2)的内部产生旋转涡流，同时，由于储液箱(2)的方形结构，使得抛光液撞击储液箱(2)的内壁而产生破碎分流，降低抛光液中的固体磨料聚集的概率；

S4：储液箱(2)内部由于氩气的持续注入，储液箱(2)的内部的压力增大，使得储液箱(2)内部的氩气经过二号气管(13)排回储气罐(5)的内部，经过水桶(12)内部的纯水过滤，清洁的氩气排回储气罐(5)进行重复利用；

S5：水泵(3)通过供液管(4)将抛光液注入双面抛光机(1)的上工作盘中；机械手臂将待打磨的石英晶片摆放到双面抛光机(1)的下工作盘上，并将石英晶片进行固定，抛光液均匀地喷射到石英晶片表面，与石英晶片表面接触发生腐蚀反应，使得石英晶片表面被腐蚀软化，并且抛光液中的固体磨料帮助机械打磨，去除石英晶片被腐蚀的表面，实现石英晶片的抛光。