[发明专利]一种受阻胺光稳定剂944的合成方法

权利要求书

1.一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：具体包括如下步骤：

1)、将三聚氯氰加入烧瓶中，然后再加入溶剂，且三聚氯氰与溶剂的质量比为1：2-4，搅拌溶解后，降温至0-10℃，然后滴加叔辛胺溶液，叔辛胺溶液滴加时间2-4小时，叔辛胺溶液滴加完毕后再保温1-2小时，体系再升温至20-30℃，滴加氢氧化钠溶液，氢氧化钠溶液的滴加时间为2-4小时，滴加完毕后保温1-2小时，静置分液，得到中间体1溶液；

2)、向高压釜中加入溶剂、己二胺哌啶和氢氧化钠溶液，氮气置换2-3遍，升温至70-90℃，然后缓慢滴加步骤(1)中的中间体1溶液，滴加时间为3-6小时；滴完后，升温至150-180℃，再保温6-12h，保温结束后进行程序降温，得到光稳定剂944溶液；

3)、向光稳定剂944溶液中加入弱酸至水相为中性，再过滤出环状不溶副产物，分出下层工艺废水，上层油相负压脱溶至175-185℃，最终得到受阻胺光稳定剂944。

2.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的步骤1)中三聚氯氰与叔辛胺的摩尔比为(1.0-1.1):1。

3.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的步骤2)中氢氧化钠溶液的质量分数为20-50％。

4.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的2)中的氢氧化钠溶液的质量分数为20-50％，且氢氧化钠溶液与己二胺哌啶的重量比为(1.0-1.5):1。

5.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的步骤2)中程序降温的过程为每隔0.5-2h降温10-20℃，温度降至70-90℃。

6.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的步骤1)和步骤2)中的溶剂为甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、二甲苯、三甲苯中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的一种受阻胺光稳定剂944的合成方法，其特征在于：所述的步骤3)中的弱酸为3％盐酸、乙酸、氯化铵、二氧化碳中的任意一种。