[发明专利]一种基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法在审

专利信息
申请号: 202211647772.5 申请日: 2022-12-21
公开(公告)号: CN115877082A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 张双玉;李蕊怡;杨阳;陈如龙 申请(专利权)人: 江苏润阳世纪光伏科技有限公司
主分类号: G01R27/02 分类号: G01R27/02;G01N27/04;H02S50/10
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 马晓敏
地址: 224000 江苏省盐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 wct120 膜片 测试 方法
【权利要求书】:

1.一种基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1:确定待监控蓝膜片的原硅电阻率Base_Resistivity和厚度Si_thinkness,所述蓝膜片包括扩散层和硅基底层,厚度Si_thinkness指的是硅基底层的厚度;

S2:根据步骤S1中获得的原硅电阻率Base_Resistivity和厚度Si_thinkness计算基底电阻Rbase,则:Rbase=Base_Resistivity÷Si_thinkness;

S3:在丝网印刷前对蓝膜片进行取样,采用WCT120获取取样蓝膜片的整体电阻Rtotal

S4:将基底电阻Rbase和整体电阻Rtotal代入扩散方阻的计算模型中,利用计算模型计算出Remitter的数值,其中,计算模型为:

式中,Rtotal表示蓝膜片的整体电阻,Rbase表示基底电阻;Remitter表示发射极电阻,即蓝膜片的扩散方阻。

2.如权利要求1所述的基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法,其特征在于:步骤S1中需要在产线批量投产之前确定待监控蓝膜片的原硅电阻率Base_Resistivity和厚度Si_thinkness。

3.如权利要求1所述的基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法,其特征在于:步骤S1中原硅电阻率采用WCT120、原硅电阻率测试仪或硅片分选机获取。

4.如权利要求1所述的基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法,其特征在于:步骤S3中采用WCT120获取取样蓝膜片的整体电阻Rtotal包括以下步骤:将取样的蓝膜片放置在WCT120的测试台面上,并将步骤S2中获得的基底电阻Rbase的数值输入到WCT120中,点击“测试”,获取获取蓝膜片的整体电阻Rtotal

5.如权利要求1所述的基于WCT120的蓝膜片方阻测试方法,其特征在于:步骤S3中取样后的蓝膜片采用WCT120直接进行测试,或者将蓝膜片烧结之后再采用WCT120进行测试。

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