[发明专利]掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202211613772.3 申请日: 2022-12-15
公开(公告)号: CN115598919B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 段淼;李林霜;朱钦富;陈黎暄 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/38;G03F7/20
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 谢璐
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 组件 曝光 系统 显示 面板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜板组件,其特征在于,包括:

光强控制掩膜板,所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区,所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率;

图案化掩膜板,所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧,所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域,其中,所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影,所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影;其中,

所述第一图案化区域的透光率与所述第二图案化区域的透光率相同,所述第一图案化区域设有多个间隔设置的第一子曝光区,所述第二图案化区域设有多个间隔设置的第二子曝光区,所述第一子曝光区的横截面宽度小于或者等于300纳米,所述第二子曝光区的横截面宽度大于或者等于2微米。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述光强控制掩膜板还包括第一金属层,所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜板组件,其特征在于,所述光强控制掩膜板还包括第二金属层,所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。

4.根据权利要求3所述的掩膜板组件,其特征在于,所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。

5.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区,所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片,所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧,所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。

6.根据权利要求5所述的掩膜板组件,其特征在于,所述光强控制掩膜板还包括至少一组第二夹持组件以及第二金属片,所述第二夹持组件设于所述遮光区且位于所述第一曝光区的相对两侧,所述第二夹持组件用于固定所述第二金属片。

7.根据权利要求6所述的掩膜板组件,其特征在于,所述第一金属片的垂直投影覆盖所述第二曝光区的垂直投影,所述第二金属片的垂直投影覆盖所述第一曝光区的垂直投影。

8.一种曝光系统,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的掩膜板组件以及光源,所述光源与所述掩膜板组件对应设置。

9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,采用如权利要求8所述的曝光系统,所述显示面板的制作方法包括:

提供一光强控制掩膜板,所述光强控制掩膜板上设有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区,所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率;

提供一图案化掩膜板,将所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧,所述图案化掩膜板上设有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域,所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影,所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。

10.一种显示面板,其特征在于,采用如权利要求9所述的显示面板的制作方法制备而成。

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