[发明专利]光学检测系统、其控制方法、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202211592991.8 | 申请日: | 2022-12-13 |
公开(公告)号: | CN115656210A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 请求不公布姓名 | 申请(专利权)人: | 苏州高视半导体技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01;G02F1/13 |
代理公司: | 北京维昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11804 | 代理人: | 李波 |
地址: | 215153 江苏省苏州市高新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 检测 系统 控制 方法 电子设备 存储 介质 | ||
本申请是关于一种光学检测系统、其控制方法、电子设备及存储介质。该光学检测系统包括:照明光源、光线传输通道、检测成像设备以及用于放置待测半导体样品的载物台;光线传输通道靠近载物台的一端设有显微物镜组;照明光源与光线传输通道的连通位置处设有分光镜;分光镜和显微物镜组之间设有遮光组件,遮光组件用于在暗场检测时启动并遮挡照明光源的光线以形成环形照明光;检测成像设备设置于光线传输通道远离载物台的一端,检测成像设备用于生成待测半导体样品的表面检测图像。本申请提供的方案,能够满足光学检测过程中明暗场高速切换检测的需求,提升暗场检测时的表面检测图像中的缺陷部分和背景部分的对比度,提升暗场检测精度。
技术领域
本申请涉及光学检测技术领域,尤其涉及光学检测系统、其控制方法、电子设备及存储介质。
背景技术
随着半导体缺陷检测技术的不断发展,对半导体检测精度的要求越来越高,为满足半导体缺陷亚微米级检测精度的需求,自动聚焦显微镜检测系统应运而生。该检测系统中常用的两种照明方式为明场照明及暗场照明。典型的阿贝明场聚光器可以应用于该检测系统中进行明暗场的切换,但是其明暗场的切换方式为机械插拔光阑,因而无法快速切换明暗场照明方式,满足不了光学检测过程中高速明暗场切换检测需求。
为解决快速切换明暗场照明方式的问题,通常自动聚焦显微镜系统明场照明采用内同轴点光源方式,暗场照明采用外置低角度环形光纤光源的方式,但该明暗场照明方式的缺陷首先是暗场为低角度环形光,导致检测图像中存在较多杂光,造成检测图像对比度差,影响光学检测效果。
有鉴于此,亟需提出一种能够快速切换明暗场照明的,且暗场检测图像高对比度的光学检测系统。
发明内容
为克服相关技术中存在的问题,本申请提供一种光学检测系统、其控制方法、电子设备及存储介质,该光学检测系统,能够满足光学检测过程中明暗场高速切换检测的需求,提升暗场检测时的表面检测图像中的缺陷部分和背景部分的对比度,提升暗场检测精度。
本申请第一方面提供一种光学检测系统,包括:
照明光源1、光线传输通道2、检测成像设备3以及用于放置待测半导体样品41的载物台4;
光线传输通道2靠近载物台4的一端设有显微物镜组5,显微物镜组5包含第一物镜以及第二物镜;
照明光源1与光线传输通道2的连通位置处设有分光镜21,使得照明光源1的光线能够通过分光镜21反射至显微物镜组5,并通过第一物镜或第二物镜投射至待测半导体样品41上;
分光镜21和显微物镜组5之间设有遮光组件6,遮光组件6用于在暗场检测时启动并遮挡照明光源1的光线以形成环形照明光;
检测成像设备3设置于光线传输通道2远离载物台4的一端,检测成像设备3用于生成待测半导体样品41的表面检测图像。
在一种实施例中,遮光组件6包括液晶光阑61以及光阑遮光驱动器62;
液晶光阑61与光阑遮光驱动器62电连接。
在一种实施例中,光阑遮光驱动器62包含第一电压驱动单元以及第二电压驱动单元;
液晶光阑61分别与第一电压驱动单元以及第二电压驱动单元电连接;
其中,第一电压驱动单元驱动液晶光阑61形成的遮光面直径为第一物镜的通光直径的80%;第二电压驱动单元驱动液晶光阑61形成的遮光面直径为第二物镜的通光直径的80%。
在一种实施例中,照明光源1包含入射光源11以及聚光透镜12;
聚光透镜12设置于分光镜21与入射光源11之间,聚光透镜12用于将入射光源11的球面光转换为平面光。
在一种实施例中,光线传输通道2中还设有成像透镜22;
成像透镜22设置于分光镜21和检测成像设备3之间,成像透镜22用于将待测半导体样品41的表面反馈光线汇聚于检测成像设备3的成像镜头31中。
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