[发明专利]光学检测系统、其控制方法、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202211592991.8 | 申请日: | 2022-12-13 |
公开(公告)号: | CN115656210A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 请求不公布姓名 | 申请(专利权)人: | 苏州高视半导体技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01;G02F1/13 |
代理公司: | 北京维昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11804 | 代理人: | 李波 |
地址: | 215153 江苏省苏州市高新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 检测 系统 控制 方法 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种光学检测系统,其特征在于,包括:
照明光源(1)、光线传输通道(2)、检测成像设备(3)以及用于放置待测半导体样品(41)的载物台(4);
所述光线传输通道(2)靠近所述载物台(4)的一端设有显微物镜组(5),所述显微物镜组(5)包含第一物镜以及第二物镜;
所述照明光源(1)与所述光线传输通道(2)的连通位置处设有分光镜(21),使得所述照明光源(1)的光线能够通过所述分光镜(21)反射至所述显微物镜组(5),并通过所述第一物镜或第二物镜投射至所述待测半导体样品(41)上;
所述分光镜(21)和所述显微物镜组(5)之间设有遮光组件(6),所述遮光组件(6)用于在暗场检测时启动并遮挡所述照明光源(1)的光线以形成环形照明光;
所述检测成像设备(3)设置于所述光线传输通道(2)远离所述载物台(4)的一端,所述检测成像设备(3)用于生成所述待测半导体样品(41)的表面检测图像。
2.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,
所述遮光组件(6)包括液晶光阑(61)以及光阑遮光驱动器(62);
所述液晶光阑(61)与所述光阑遮光驱动器(62)电连接。
3.根据权利要求2所述的光学检测系统,其特征在于,
所述光阑遮光驱动器(62)包含第一电压驱动单元以及第二电压驱动单元;
所述液晶光阑(61)分别与所述第一电压驱动单元以及所述第二电压驱动单元电连接;
其中,所述第一电压驱动单元驱动所述液晶光阑(61)形成的遮光面直径为所述第一物镜的通光直径的80%;所述第二电压驱动单元驱动所述液晶光阑(61)形成的遮光面直径为所述第二物镜的通光直径的80%。
4.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,
所述照明光源(1)包含入射光源(11)以及聚光透镜(12);
所述聚光透镜(12)设置于所述分光镜(21)与所述入射光源(11)之间,所述聚光透镜(12)用于将所述入射光源(11)的球面光转换为平面光。
5.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,
所述光线传输通道(2)中还设有成像透镜(22);
所述成像透镜(22)设置于所述分光镜(21)和所述检测成像设备(3)之间,所述成像透镜(22)用于将所述待测半导体样品(41)的表面反馈光线汇聚于所述检测成像设备(3)的成像镜头(31)中。
6.一种光学检测系统控制方法,其特征在于,用于控制如权利要求1-5中任一项所述的光学检测系统进行检测,包括:
接收光学检测请求,所述光学检测请求包含明场检测请求以及暗场检测请求;
若所述光学检测请求为所述暗场检测请求,则响应于所述暗场检测请求启动所述遮光组件;
通过所述检测成像设备对待测半导体样品进行成像,得到用于进行暗场检测的表面检测图像。
7.根据权利要求6所述的光学检测系统控制方法,其特征在于,
所述响应于所述暗场检测请求启动所述遮光组件,包括:
响应于所述暗场检测请求,启动所述遮光组件中的光阑遮光驱动器对所述遮光组件中的液晶光阑进行供电。
8.根据权利要求7所述的光学检测系统控制方法,其特征在于,
所述启动所述遮光组件中的光阑遮光驱动器对所述遮光组件中的液晶光阑进行供电,包括:
监测物镜切换事件;
若监测到所述物镜切换事件,则获取当前切换物镜的物镜倍率参数;
根据当前切换物镜的物镜倍率参数物镜倍率参数映射得到当前切换物镜的通光直径;
根据当前切换物镜的通光直径启动所述光阑遮光驱动器中匹配的电压驱动单元,以使得匹配的电压驱动单元能够对液晶光阑进行供电。
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