[发明专利]气体传感器及气体传感器的控制方法在审

专利信息
申请号: 202211572585.5 申请日: 2022-12-08
公开(公告)号: CN116265932A 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 渡边悠介;桥川凌;关谷高幸 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: G01N27/416 分类号: G01N27/416;G01N27/419
代理公司: 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 代理人: 王轶;郑雪娜
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 气体 传感器 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种气体传感器,其对被测定气体中的特定气体浓度进行检测,

所述气体传感器的特征在于,具备传感器元件和控制部,

所述传感器元件具有:

元件主体,该元件主体包括氧离子传导性的固体电解质层,并在内部设置有供所述被测定气体导入并使其流通的被测定气体流通部;

测定电极,该测定电极配设于所述被测定气体流通部;

被测定气体侧电极,该被测定气体侧电极以与所述被测定气体接触的方式设置于所述元件主体;

基准电极,该基准电极配设于所述元件主体的内部;

基准气体导入部,该基准气体导入部使成为所述被测定气体中的所述特定气体浓度的检测基准的基准气体从所述元件主体的外部流通至所述基准电极;以及

基准气体调整泵单元,该基准气体调整泵单元构成为包括所述被测定气体侧电极和所述基准电极,

所述控制部进行水分浓度降低处理,即:对所述基准气体调整泵单元进行控制,以使得从所述基准电极的周围向所述被测定气体侧电极的周围吸出氧,使所述基准电极的周围的水分浓度降低。

2.根据权利要求1所述的气体传感器,其特征在于,

所述控制部在所述水分浓度降低处理中对所述基准气体调整泵单元进行控制,以便交替地进行:从所述基准电极的周围向所述被测定气体侧电极的周围吸出氧、和从所述被测定气体侧电极的周围向所述基准电极的周围吸入氧。

3.一种气体传感器,其对被测定气体中的特定气体浓度进行检测,

所述气体传感器的特征在于,具备传感器元件和控制部,

所述传感器元件具有:

元件主体,该元件主体包括氧离子传导性的固体电解质层,并在内部设置有供所述被测定气体导入并使其流通的被测定气体流通部;

测定电极,该测定电极配设于所述被测定气体流通部;

被测定气体侧电极,该被测定气体侧电极以与所述被测定气体接触的方式设置于所述元件主体;

基准电极,该基准电极配设于所述元件主体的内部;

基准气体导入部,该基准气体导入部使成为所述被测定气体中的所述特定气体浓度的检测基准的基准气体从所述元件主体的外部流通至所述基准电极;以及

基准气体调整泵单元,该基准气体调整泵单元构成为包括所述被测定气体侧电极和所述基准电极,

所述控制部进行下述的处理,即:基准气体调整处理,对所述基准气体调整泵单元进行控制,以便从所述被测定气体侧电极的周围向所述基准电极的周围吸入氧,对所述基准电极的周围的氧浓度进行调整;以及水分浓度降低处理,对所述基准气体调整泵单元进行控制,以便相比于所述基准气体调整处理而言暂时向所述基准电极的周围吸入更多的氧,使得所述基准电极的周围的水分浓度降低。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的气体传感器,其特征在于,

所述控制部在所述水分浓度降低处理中对基准气体调整泵单元施加0.3V以上1.5V以下的控制电压,使该基准气体调整泵单元进行动作。

5.根据权利要求1~3中的任一项所述的气体传感器,其特征在于,

所述水分浓度降低处理的执行时间为5秒以上300秒以下。

6.根据权利要求1~3中的任一项所述的气体传感器,其特征在于,

所述气体传感器具备加热器,该加热器对所述元件主体进行加热,

所述控制部在向所述加热器通电而使得该加热器的温度到达规定温度以上之后,进行所述水分浓度降低处理。

7.根据权利要求1~3中的任一项所述的气体传感器,其特征在于,

所述控制部进行水分判定处理,即:基于以使得从所述基准电极的周围向所述被测定气体侧电极的周围吸出氧地对所述基准气体调整泵单元进行控制时流通于该基准气体调整泵单元的泵电流,来判定所述基准电极的周围的水分是否多,在判定为水分多的情况下,进行所述水分浓度降低处理。

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