[发明专利]一种用于延长气相生长基座内热场寿命的结构

权利要求书

1.一种用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，包括进气室、反应室和基座；所述进气室底部设置有所述反应室，且所述进气室与所述反应室相连通；所述基座位于所述反应室内下部，且所述基座位于所述进气室正下方；所述基座顶部用于承托晶片；所述基座内设置有基座热场，所述基座热场用于对所述晶片加热；所述反应室底部设置有排气口；还包括顶端伸入所述基座的进气管，所述进气管的底端与一供气机构相连通；所述基座的底部设置有出气口。

2.根据权利要求1所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述进气管包括横向开口进气管和纵向开口进气管；所述横向开口进气管的顶端为封口设置，所述横向开口进气管的顶端侧壁上设置有横向开口；所述纵向开口进气管的顶端为开口设置；所述横向开口进气管和所述纵向开口进气管的底端与所述供气机构相连通。

3.根据权利要求2所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述基座顶部设置有基板，所述基板用于承托所述晶片。

4.根据权利要求3所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述基座热场包括发热体，所述发热体设置于所述基板下方。

5.根据权利要求4所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述发热体通过石墨电极与石英固定板相连接，所述石英固定板设置于所述基座内底部；所述横向开口进气管和所述纵向开口进气管均贯穿所述石英固定板。

6.根据权利要求5所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述横向开口进气管用于吹扫所述石墨电极与所述石英固定板的连接处，所述纵向开口进气管用于吹扫所述发热体。

7.根据权利要求1所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述基座底部设置有下转台，所述出气口设置于所述下转台上。

8.根据权利要求7所述的用于延长气相生长基座内热场寿命的结构，其特征在于，所述下转台与一旋转轴相连接，所述旋转轴为空心轴，所述进气管设置于所述旋转轴内。