[发明专利]一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统在审

专利信息
申请号: 202211516148.1 申请日: 2022-11-30
公开(公告)号: CN116125754A 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 周朝阳 申请(专利权)人: 深圳光迪科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 伍传松
地址: 518100 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 dmd 多路复用 分区 同时 曝光 系统
【说明书】:

发明公开了一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统,包括:光源、照明系统、数字微镜阵列、反射镜组、导光系统、投影系统等组成部分。本方案通过将数字微镜阵列设置成沿扫描方向分区的N个DMD子阵列,配合反射镜组和导光系统输出多个图像分区光路,每一个分区的光进入不同的第一反射镜,导光系统分别将光路进行调整并以一定的方式排列,经调整后进入到各个投影系统中,最终在工作平面呈现多个由同一片DMD投影出的拼接图像,从而可以仅用一片DMD分区完成多路同时曝光,充分利用了DMD的每一个像素,节省传统直写曝光系统的多个DMD设备成本。

技术领域

本发明涉及直写曝光系统领域,尤其是一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统。

背景技术

当前激光直写系统,一台激光直写设备由多个DMD及投影系统以一定排列方式拼接并同时进行曝光,采用扫描的工作方式对目标点进行重复曝光,其中一片DMD(数字微镜)对应一套投影系统。当前主要的直写系统中,即使采用重复曝光,也不需要使用DMD过多的“行”,只使用其中部分“行”像素,例如256行像素和512行像素,是通行做法。实际上,“行”数增加,装载数据所用的时间也会相应增加,既没有提升分辨,又降低了产能,而激光直写设备中DMD的成本占比非常高,不能完全利用DMD的每一个像素,是当前直写系统中的一大弊端。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明要解决的技术问题是提供一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统,能够只使用单个DMD来降低激光直写设备的制造成本。

根据本发明实施例的一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统,包括:光源,用于输出初始光线;照明系统,与所述光源的输出端连接,用于对所述初始光线进行预处理以满足曝光要求;数字微镜阵列,设置于所述照明系统的输出侧,所述数字微镜阵列包括沿扫描方向分区的N个DMD子阵列,N个所述DMD子阵列分别对应待曝光图像的N个不同区域且其出光方向垂直于扫描平面;反射镜组,包括N-1个第一反射镜,N-1个所述第一反射镜分别对应反射N-1个所述DMD子阵列的输出光线;导光系统,包括N-1个导光模块,N-1个所述导光模块分别与N-1个所述第一反射镜一一对应;投影系统,包括N个投影模块,其中1个所述投影模块对应1个输出光线直投的DMD子阵列,其余N-1个投影模块对应接收N-1个所述导光模块的输出光线;所述投影系统用于将所述输出光线转换成投影光,并作用于工作平面。

根据本发明实施例的一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统,至少具有如下有益效果:本方案通过将数字微镜阵列设置成沿扫描方向分区的N个DMD子阵列,配合反射镜组和导光系统输出多个图像分区光路,每一个分区的光进入不同的第一反射镜,导光系统分别将光路进行调整并以一定的方式排列,经调整后进入到各个投影系统中,最终在工作平面呈现多个由同一片DMD投影出的拼接图像,从而可以仅用一片DMD分区完成多路同时曝光,充分利用了DMD的每一个像素,节省传统直写曝光系统的多个DMD设备成本。

根据本发明的一些实施例,N个所述DMD子阵列为控制待曝光图像的发生时相互独立的DMD子阵列。

根据本发明的一些实施例,N个所述DMD子阵列与扫描方向保持特定倾斜角。

根据本发明的一些实施例,N个所述DMD子阵列之间设置有空白间隙行数。

根据本发明的一些实施例,N个所述DMD子阵列与N个投影模块之间的相对位置固定。

根据本发明的一些实施例,所述光源采用激光器或LED光源。

根据本发明的一些实施例,所述照明模块包括依次设置的光棒、照明透镜,所述光棒通过光纤连接所述光源的输出端。

根据本发明的一些实施例,N个所述导光模块为第二反射镜或棱镜。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。

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