[发明专利]一种双IM层触摸屏传感器制作流程在审
申请号: | 202211457916.0 | 申请日: | 2022-11-21 |
公开(公告)号: | CN115951795A | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 黄生发;詹雅莹 | 申请(专利权)人: | 信利光电股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 郭美丽 |
地址: | 516600 广东省汕*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 im 触摸屏 传感器 制作 流程 | ||
本发明涉及一种双IM层触摸屏传感器制作流程,包括在玻璃基板整面制作BM油墨层,在BM油墨层上制作第一IM层,通过蒸镀工艺在第一IM层上形成整面的第一ITO层,在第一ITO层上制作整面第一OC胶层,在第一OC胶层上通过蒸镀工艺形成整面的第二ITO层,在第二ITO层上通过蒸镀工艺形成整面的金属层,在金属层丝印耐高温蓝膜,耐高温蓝膜只丝印在需要连接FPC区域的绑定位区域,整面真空镀第二IM层,第二IM层镀膜完成后,撕离耐高温蓝膜,露出绑定位,整面制作第二OC胶层。本发明在绑定位区域的金属层上丝印一层耐高温蓝膜,镀完第二IM层再把耐高温蓝膜撕离,露出绑定位,IM层不会被蚀刻膏蚀刻到,绑定位的BM油墨结构也不会被破坏,照射UV光后不会有异色问题。
技术领域
本发明涉及触摸屏技术领域,更具体地说,涉及一种双I M层触摸屏传感器制作流程。
背景技术
目前双I M结构sensor制作流程中,制作完成第二IM层时需要丝印一层蚀刻膏来蚀刻绑定位位置的第二I M层,蚀刻膏容易同时将第一IM层也蚀刻掉,导致第一IM层下的BM油墨外露和蚀刻膏直接接触,这时的BM分子结构会发生改变,通过UV光照射后,此部分的BM颜色出现变化,即绑定位有异色。因此,急需一种新的工艺流程来解决以上技术问题。
发明内容
本发明旨在解决现有技术问题,提出一种双IM层触摸屏传感器制作流程,该流程使用一种新的工艺流程,新的流程是在绑定位大片丝印蓝膜后,再镀第二I M层,镀完第二IM层再把蓝膜撕离,露出绑定位,无需经过蚀刻膏蚀刻I M,第一I M层不会被蚀刻膏蚀刻到,绑定位的BM油墨结构也不会被破坏,照射UV光后不会有异色问题。
具体的,本发明技术方案为:一种双IM层触摸屏传感器制作流程,该流程包括:
在玻璃基板整面制作BM油墨层,BM油墨层上涂光刻胶,经过黄光照射后用碱液显影出需要的BM图案;
在BM油墨层上制作第一IM层;
通过蒸镀工艺在第一IM层上形成整面的第一I TO层,通过涂胶,曝光,显影,酸刻工序形成第一I TO层图案;
在第一I TO层上制作整面第一OC胶层,通过涂胶,曝光,显影,酸刻工序形成第一OC胶层需要的图案;
在第一OC胶层上通过蒸镀工艺形成整面的第二I TO层,通过涂胶,曝光,显影,酸刻工序形成第二I TO层触控图案;
在第二I TO层上通过蒸镀工艺形成整面的金属层,然后通过涂胶,曝光,显影,酸刻工序形成金属层走线图案;
在金属层通过丝印工艺丝印耐高温蓝膜,耐高温蓝膜只丝印在需要连接FPC区域的绑定位区域;
整面真空镀第二I M层,第二I M层镀膜完成后,撕离耐高温蓝膜,露出绑定位;
整面制作第二OC胶层,涂胶后经过黄光照射用碱液显影出需要的图案。
以上,针对现有技术存在的问题,对工艺流程进行了改进,在绑定位区域的金属层上丝印一层耐高温蓝膜,当镀完第二I M层再把耐高温蓝膜撕离,露出绑定位,第一I M层和第二I M层不会被蚀刻膏蚀刻到,绑定位的BM油墨结构也不会被破坏,照射UV光后不会有异色问题。
作为优选的技术方案,BM油墨层的厚度为1.0-2.5um。
作为优选的技术方案,第一I M层为由化合物S I3N4和S IO2交叠形成的一种多层复合膜,第一I M层整面制作覆盖于玻璃基板。
作为优选的技术方案,第一I TO层的电阻为25-100ohm/sq。
作为优选的技术方案,第一OC胶层的厚度为1.2~2.5um。
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