[发明专利]一种铌酸锂陶瓷溅射靶材及其制备方法、应用

权利要求书

1.一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10.取纯度高于99.99%的化学计量比铌酸锂原粉，置于球磨机中进行球磨，得到粒径小于5µm的铌酸锂粉体A；

S20.取纯度高于99.99%、粒度为150µm至200µm的还原金属粉和所述铌酸锂粉体A，按照质量比为1:100至3:100混合均匀，放入真空气氛炉中，在温度为600℃至1000℃，且真空度为10^-4Pa至10^-3Pa的气氛下，保温0.5小时至1小时，得到黑色的粉体B半成品，将所述粉体B半成品依次经过酸液酸洗、清洗液清洗，且重复至少3次，抽滤、干燥后得到黑色的铌酸锂粉体B，且所述还原金属粉为铝粉，所述酸液为稀盐酸溶液，所述清洗液为超纯水；

S30.将所述铌酸锂粉体B放入衬有石墨纸的石墨模具中并送入放电等离子烧结炉中烧结，烧结条件为：抽空至10^-3Pa，然后通入Ar气，控制炉内Ar气压力为100Pa至500Pa，设定模冲压制压力为50MPa至100MPa，升温速率为100℃/min至150℃/min，升温至950℃至1150℃，保温10min至20min，得到相对密度为93.4%至98.1%的铌酸锂陶瓷溅射靶材。

2.根据权利要求1所述的一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，在所述S20中，所述还原金属粉和所述铌酸锂粉体A混合均匀后得到混合粉体，还包括：

S40.将所述混合粉体平铺于高纯氧化铝料舟中；

S50.将所述高纯氧化铝料舟送入所述真空气氛炉中。

3.根据权利要求1所述的一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，在所述S20中，所述将所述粉体B半成品依次经过酸洗、清洗液清洗，且重复至少3次包括：

S60.按照质量比为5：1称取浓度为3mol/L的稀盐酸溶液和所述粉体B半成品，将所述粉体B半成品浸泡于所述稀盐酸溶液中，并搅拌4小时至5小时，然后使用超纯水清洗；

重复所述S60至少3次。

4.根据权利要求3所述的一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，在所述S60中，磁力搅拌5小时。

5.根据权利要求1所述的一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述S10包括：

按照质量比为20:1称取纯度高于99.99%的化学计量比铌酸锂原粉和无水乙醇，加入至球磨机的聚四氟乙烯罐体中，并向所述聚四氟乙烯罐体加入氧化锆磨球，进行球磨处理，球磨时间为10小时至20小时；

将球磨后的浆料取出并置于温度为110℃的电热鼓风干燥箱中干燥5小时去除无水乙醇，得到粒径小于5µm的所述铌酸锂粉体A。

6.一种权利要求1至5中任一项所述的一种铌酸锂陶瓷溅射靶材的制备方法所制备的铌酸锂陶瓷溅射靶材用于采用磁控溅射法制备铌酸锂薄膜中的应用。