[发明专利]太阳能硅片连接结构、制备工艺及光伏组件

权利要求书

1.太阳能硅片连接结构，其特征在于，在硅片表面设置金属镂空网，所述金属镂空网和硅片之间通过导电胶粘结，所述金属镂空网包括横向金属带、纵向金属带和镂空部，所述横向金属带宽度为0.01mm-1mm，所述横向金属带之间的间距为0.5cm-5cm，所述纵向金属带的宽度为0.01mm-1mm，所述纵向金属带的间距为1cm-5cm。

2.如权利要求1所述的太阳能硅片连接结构，其特征在于，所述金属镂空网至少设置一根支撑带，所述支撑带宽度为2mm-10mm。

3.如权利要求1或2所述的太阳能硅片连接结构，其特征在于，所述金属镂空网厚度为18μm-100μm。

4.太阳能硅片的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

通过丝网印刷工艺在金属镂空网第一表面印刷导电胶层；

将金属镂空网的第一表面朝向硅片并通过导电胶层粘贴于硅片表面。

5.如权利要求4所述的太阳能硅片的制备工艺，其特征在于，所述导电胶层包括20％-60％重量份的导电颗粒、树脂和溶剂；

所述导电颗粒包括银粉、铜粉或镍粉中的一种或多种，所述银粉、铜粉或镍粉的形状为球状、片状、雪花状或树枝状中的一种或混合，所述银粉、铜粉或镍粉的粒径为1μm-20μm；

所述树脂至少包含丙烯酸树脂、硅胶树脂和聚氨酯中的一种。

6.如权利要求4或5所述的太阳能硅片的制备工艺，其特征在于，所述金属镂空网至少设置一根支撑带，所述支撑带宽度为2mm-10mm。

7.如权利要求6所述的太阳能硅片的制备工艺，其特征在于，还包括以下步骤：

将设置有导电胶层的金属镂空网进行干燥，使导电胶层处于半干状态。

8.如权利要求7所述的太阳能硅片的制备工艺，其特征在于，所述金属镂空网包括横向金属带、纵向金属带和镂空部，所述横向金属带宽度为0.01mm-1mm，所述横向金属带之间的间距为0.5cm-5cm，所述纵向金属带的宽度为0.01mm-1mm，所述纵向金属带的间距为1cm-5cm，所述金属镂空网厚度为18μm-100μm。

9.光伏组件，其特征在于，包括边框组件以及权利要求1-3任一所述的太阳能硅片连接结构制成的硅片。

10.光伏组件，其特征在于，包括边框组件以及权利要求1-3任一所述的太阳能硅片连接结构制成的硅片，所述硅片包括光面和粗糙面，所述硅片以光面和粗糙面交错分布。