[发明专利]基板处理装置及方法

说明书

提供了一种能够稳定地传送多种类型的基板的基板处理装置。该基板处理装置包括：悬浮工作台，其在第一方向上传送基板，并包括沿与第一方向不同的第二方向布置的第一区域和第二区域；多个辊，设置在第一区域中，并用于传送基板；多个第一真空孔，设置在第一区域中，并以第一压力抽吸空气；以及多个第二真空孔，设置在第二区域中，并以与第一压力不同的第二压力抽吸空气。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置及方法。

背景技术

当制造显示装置时，可以执行各种工艺，诸如摄像、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉积、清洗等。这里，摄像工艺包括涂布、曝光和显影工艺。在基板上形成感光膜(即，涂布工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光出电路图案(即，曝光工艺)，选择性地对基板的经曝光处理的区域进行显影(即，显影工艺)。

发明内容

解决的技术问题

另外，当执行这些工艺时，可以通过使用悬浮工作台悬浮基板来进行传送。当使用悬浮工作台来传送各种类型的基板(例如，具有不同厚度的基板、由于前一步骤的工艺而产生翘曲现象(warpage)的基板等)时，经常会发生传送缺陷(例如，基板滑移、对准失准等)。

本发明要解决的技术问题在于，提供一种能够稳定地传送各种类型的基板的基板处理装置。

本发明要解决的另一技术问题在于，提供一种能够稳定地传送各种类型的基板的基板处理方法。

本发明的技术课题不限于上述技术课题，本领域的技术人员通过下面的描述可以清楚地理解未提及的其他技术课题。

解决方法

为解决上述技术问题，本发明的基板处理装置的一方面包括：悬浮工作台，其在第一方向上传送基板，并包括沿与第一方向不同的第二方向布置的第一区域和第二区域；多个辊，设置在第一区域中，并用于传送基板；多个第一真空孔，设置在第一区域中，并以第一压力抽吸空气；以及多个第二真空孔，设置在第二区域中，并以与第一压力不同的第二压力抽吸空气。

为解决上述技术问题，本发明的基板处理装置的另一方面包括：悬浮工作台，其在第一方向上传送基板，并包括沿与第一方向不同的第二方向交替布置的多个第一区域和多个第二区域；多个辊，设置在第一区域中，并用于传送基板；多个第一真空孔，设置在第一区域中，并以第一压力抽吸空气；多个第一喷射孔，设置在第一区域中，并用于喷射压缩空气；多个第二真空孔，设置在第二区域中，并以第二压力抽吸空气；多个第二喷射孔，设置在第二区域，并用于喷射压缩空气；以及控制器，根据基板的厚度来控制第一压力的大小，以及根据形成在基板上的膜的类型来控制第二压力的大小。

为解决上述技术问题，本发明的基板处理方法的一方面包括：提供基板处理装置，基板处理装置包括：悬浮工作台，包括沿悬浮工作台的宽度方向布置的第一区域和第二区域；多个辊，设置在第一区域中，并用于传送基板；多个第一真空孔，设置在第一区域中，并以第一压力抽吸空气；多个第二真空孔，设置在第二区域中，并以第二压力抽吸空气；以及控制器，控制第一压力和第二压力；接收基板的唯一编号；将基板引入到悬浮工作台；基于唯一编号，获取关于基板的厚度和形成在基板上的膜的类型的信息；以及根据基板的厚度来控制第一压力的大小，以及根据形成在基板上的膜的类型来控制第二压力的大小。

其他实施例的具体事项包含在详细的说明及附图中。

附图说明

图1是根据本发明第一实施例的基板处理装置的立体图。

图2是用于说明图1的第一区域和第二区域的平面图。

图3是沿图1的线III-III截取的截面图。

图4是详细示出图3所示的第一阀模块的图。

图5是详细示出图3所示的第二阀模块的图。