[发明专利]一种新型硅片电泳前处理方法

说明书

本发明涉及一种新型硅片电泳前处理方法，在硫酸、双氧水溶液中处理步骤的前后增加了弱酸处理。本发明方法简单可以降低产品的破片率，提升硅片的强度，保证了操作的安全性，还能将硅片沟槽清洗干净，从而使得产品的品质、信赖性得到提升。

技术领域

本发明涉及硅片清洗技术领域，属于一种新型硅片电泳前处理方法。

背景技术

电泳前硅片的清洗处理对硅片的电性尤为重要，现传统工艺采用的是1号液和2号液对硅片进行清洗，而1号液和2号液需要加热，温度一般为100～130℃，且使用的酸的量较多，酸的使用量多，对酸使用安全尤为重要，1号液和2号液只对硅片表面进行清洗，硫酸对烧完胶的硅片沟槽进行清洗，但是烧完胶的硅片直接进入到温度为100～130℃硫酸和双氧水中，硅片突然受热，出现咔咔声响，且破片现状，经过硫酸和双氧水清洗后的硅片放入流动水中冲洗时，由于硅片上的硫酸遇到水，会发出大量的热，并且硫酸进入水中，会出现硫酸飞溅的现状，最终使硅片再次出现咔咔声音，最终导致硅片破片，150片硅片出现破片2片左右，破片率为1.3%，经过突然受热和突然降温，对硅片的强度有影响。

发明内容

针对背景技术中的问题，本发明提供一种新型硅片电泳前处理方法，在硫酸、双氧水溶液中处理步骤的前后增加了冰醋酸处理，本发明不仅将硅片沟槽清洗干净，降低了产品的漏电流值，而且保证了硅片的强度，从而使得产品的品质、信赖性得到提升。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种新型硅片电泳前处理方法，包括如下步骤：

（1）取烧完胶的硅片在弱酸中处理15～45S；

（2）在硫酸、双氧水溶液中处理6～10min；

（3）在弱酸中处理15～45S；

（4）用流动纯水冲洗5～10min；

（5）在静止纯水中进行超声波清洗15～20min；

（6）在水槽中进行最后一级冲水，观察材料洁净度，最后一级冲水的水阻值≥10MΩcm。

优选的，所述弱酸为冰醋酸，所述冰醋酸的级别为电子级，温度为20～30℃。

优选的，所述硫酸、双氧水溶液温度为110～130℃，其硫酸与双氧水比例为10:1，所述硫酸的级别为电子级，硫酸的浓度为≥98%，所述双氧水的级别为电子级。

优选的，所述步骤（5）的超声波振幅为15～25mv。

优选的，所述步骤（4）和步骤（5）的纯水的纯度为≥99.99%。

优选的，所述步骤（1）的在弱酸中处理的步骤为，先在碳酸中处理15～30S，再在冰醋酸中处理15～30S。

优选的，所述步骤（3）的在弱酸中处理的步骤为，先在冰醋酸中处理15～30S，再在碳酸中处理15～30S。

优选的，所述碳酸的级别为电子级，温度为20～30℃。

所述最后一级冲水的水阻值指的是水槽的进水口纯水的电阻值，要求≥10 MΩcm，最后一级冲水是观察材料洁净度的一种方式。

在硫酸、双氧水溶液中处理步骤的前后增加了冰醋酸处理，冰醋酸主要作用为钝化的作用，作为缓冲剂，硅片经过冰醋酸后，再放入硫酸、双氧水溶液中，此时的冰醋酸起到缓冲剂作用，使得硅片不出现咔咔声音且不破片。当硅片从硫酸、双氧水溶液中出来时，将硅片放入冰醋酸中，这时候冰醋酸起到缓冲剂作用，经过冰醋酸再到水里，就不会出现大量放热和破片现象，既能保证硅片清洗干净，又能保证硅片的强度，最终使产品品质得到提升及稳定。

实验表明，在步骤（1）冰醋酸处理前加入碳酸处理，硅片钝化效果更好，在步骤（3）冰醋酸处理后加入碳酸处理，硅片在水中放出的热量更弱，最终处理后的产品品质更加稳定。