[发明专利]一种测试电路及latch up规则验证方法在审
| 申请号: | 202211298140.2 | 申请日: | 2022-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN115575789A | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
| 发明(设计)人: | 陈蓓;范茂成 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 测试 电路 latch up 规则 验证 方法 | ||
本发明提供一种测试电路及latch up规则验证方法,反相器包括顺次连接的第一至第N反相器;Tie‑high电路;第一至第N反相器中每个反相器分别包括相互连接的一个NMOS和一个PMOS;第一反相器的输入端连接Tie‑high电路的输出端;第N反相器的输出端悬空;Tie‑high电路包括:第一、第二NMOS和第一、第二PMOS;第一、第二PMOS的栅极相连;第一、第二PMOS的bulk端与各自的源极分别连接至电压VDD;第一PMOS的漏极作为Tie‑high电路的输出端;第二PMOS的漏极连接至第二NMOS的栅极;第一、第二NMOS的漏极、第一NMOS的栅极共同连接至第一、第二PMOS的栅极;第一、第二NMOS的bulk端以及各自的源极分别接地;第一至第N反相器中每个反相器的PMOS的源极连接电压VDD;第一至第N反相器中每个反相器的NMOS的源极接地。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别是涉及一种测试电路及latch up规则验证方法。
背景技术
随着半导体制造技术的发展,封装密度和集成度越来越高,产生Latch up(闩锁效应)的可能性会越来越大。Latch up产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的破坏,latch up的防范是IC layout的最重要措施之一。
由于latch up效应比较容易发生在IO区域,因此有大量IO device相关的测试结构,而针对core device的测试结构很少,因此我们设计了这样一个测试电路来填补这一空缺。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种测试电路及latch up规则验证方法,用于解决现有技术中缺少关于core layout的测试结构的latch up规则验证方法的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种测试电路,至少包括:
反相器;所述反相器包括顺次连接的第一至第N反相器;Tie-high电路;
所述第一至第N反相器中每个反相器分别包括相互连接的一个NMOS和一个PMOS;
所述第一反相器的输入端连接所述Tie-high电路的输出端;所述第N反相器的输出端悬空;
所述Tie-high电路包括:第一、第二NMOS和第一、第二PMOS;所述第一、第二PMOS的栅极相连;所述第一、第二PMOS的bulk端与各自的源极分别连接至电压VDD;所述第一PMOS的漏极作为所述Tie-high电路的输出端;所述第二PMOS的漏极连接至所述第二NMOS的栅极;
所述第一、第二NMOS的漏极、第一NMOS的栅极共同连接至所述第一、第二PMOS的栅极;所述第一、第二NMOS的bulk端以及各自的源极分别接地;
所述第一至第N反相器中每个反相器的所述PMOS的源极连接电压VDD;所述第一至第N反相器中每个反相器的所述NMOS的源极接地。
优选地,所述第一至第N反相器的顺次连接方式为:所述第一至第N-1反相器中每个反相器的所述PMOS的漏极与该反相器中的所述NMOS的漏极相连,并顺次连接至下一个反相器中的所述PMOS和NMOS的栅极;所述第一反相器中所述PMOS和NMOS的栅极连接至所述Tie-high电路的输出端。
优选地,所述测试电路还包括连接在所述Tie-high电路输入端的dummy器件单元以及与所述dummy器件单元输入端连接的END CAP单元;所述dummy器件单元的输出端与所述Tie-high电路的输入端连接。
优选地,所述测试电路还包括连接在所述第N反相器中PMOS和NMOS漏极的dummy器件单元以及与该dummy器件单元输出端连接的END CAP单元。
优选地,所述END CAP单元用于接触衬底。
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