[发明专利]一种测试电路及latch up规则验证方法在审
| 申请号: | 202211298140.2 | 申请日: | 2022-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN115575789A | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
| 发明(设计)人: | 陈蓓;范茂成 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 测试 电路 latch up 规则 验证 方法 | ||
1.一种测试电路,其特征在于,至少包括:
反相器;所述反相器包括顺次连接的第一至第N反相器;Tie-high电路;
所述第一至第N反相器中每个反相器分别包括相互连接的一个NMOS和一个PMOS;
所述第一反相器的输入端连接所述Tie-high电路的输出端;所述第N反相器的输出端悬空;
所述Tie-high电路包括:第一、第二NMOS和第一、第二PMOS;所述第一、第二PMOS的栅极相连;所述第一、第二PMOS的bulk端与各自的源极分别连接至电压VDD;所述第一PMOS的漏极作为所述Tie-high电路的输出端;所述第二PMOS的漏极连接至所述第二NMOS的栅极;
所述第一、第二NMOS的漏极、第一NMOS的栅极共同连接至所述第一、第二PMOS的栅极;所述第一、第二NMOS的bulk端以及各自的源极分别接地;
所述第一至第N反相器中每个反相器的所述PMOS的源极连接电压VDD;所述第一至第N反相器中每个反相器的所述NMOS的源极接地。
2.根据权利要求1所述的测试电路,其特征在于:所述第一至第N反相器的顺次连接方式为:所述第一至第N-1反相器中每个反相器的所述PMOS的漏极与该反相器中的所述NMOS的漏极相连,并顺次连接至下一个反相器中的所述PMOS和NMOS的栅极;所述第一反相器中所述PMOS和NMOS的栅极连接至所述Tie-high电路的输出端。
3.根据权利要求1所述的测试电路,其特征在于:所述测试电路还包括连接在所述Tie-high电路输入端的dummy器件单元以及与所述dummy器件单元输入端连接的END CAP单元;所述dummy器件单元的输出端与所述Tie-high电路的输入端连接。
4.根据权利要求3所述的测试电路,其特征在于:所述测试电路还包括连接在所述第N反相器中PMOS和NMOS漏极的dummy器件单元以及与该dummy器件单元输出端连接的END CAP单元。
5.根据权利要求4所述的测试电路,其特征在于:所述END CAP单元用于接触衬底。
6.根据权利要求1所述的测试电路,其特征在于:所述Tie-high电路用于对所述测试电路产生自偏置。
7.根据权利要求1所述的测试电路,其特征在于:对于所述第一至第N反相器中的PMOS的版图,在同一N阱中,所述PMOS有源区至与该PMOS有源区最近的N+有源区的距离大于30μm时,该测试电路在运行时发生latch up。
8.根据权利要求7所述的测试电路,其特征在于:对于所述第一至第N反相器中的NMOS的版图,在同一P阱中,所述NMOS有源区至与该NMOS有源区最近的P+有源区的距离大于30μm时,该测试电路在运行时发生latch up。
9.根据权利要求1至8任意一项所述的测试电路的latch up规则验证方法,其特征在于,至少包括:
步骤一、提供所述测试电路;
步骤二、将所述电压VDD的值置为VCC;测试所述电压VDD到地电压VSS之间的电流值Idd1;
步骤三、将所述电压VDD的值加至1.5VCC,之后再降至VCC,测试所述电压VDD到地电压VSS之间的电流值Idd2;
步骤四、将所述电流值Idd1与所述电流值Idd2进行比较,若所述电流值Idd2大于所述电流值Idd1的1.4倍,则所述测试电路在步骤三中的加压过程中发生latch up。
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