[发明专利]过零检测电路、控制方法及控制装置在审
申请号: | 202211245992.5 | 申请日: | 2022-10-12 |
公开(公告)号: | CN115480093A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 冯俊杰;张秋俊;巨姗;胡紫嫣;高岩;郗浩然 | 申请(专利权)人: | 珠海格力电器股份有限公司 |
主分类号: | G01R19/175 | 分类号: | G01R19/175;H02H1/00;H02H7/22 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 金淼;陈超德 |
地址: | 519030 广东省珠海市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 电路 控制 方法 装置 | ||
1.一种过零检测电路,其特征在于,包括:第一三极管、第二三极管、第一光耦和第二光耦,所述第一三极管的基极用于接收控制信号,所述第一三极管的集电极接地,所述第一三极管的发射极与所述第一光耦的发光二极管的负极连接,所述第一光耦的发光二极管的正极接芯片电源,所述第一光耦的双向可控硅的第一端用于连接交流电源的火线,所述述第一光耦的双向可控硅的第二端与第二光耦的发光二极管的正极连接,所述第二光耦的发光二极管的负极用于接所述交流电源的零线,所述第二光耦的光电三极管的发射极与所述芯片电源、过零检测接口和所述第二三极管的集电极连接,所述第二光耦的光电三极管的集电极接所述第二三极管的基极,所述第二三极管的发射极接地。
2.根据权利要求1所述的过零检测电路,其特征在于,所述过零检测电路还包括:二极管,所述二极管的正极与所述交流电源的零线连接,所述二极管的负极与所述第二光耦的发光二极管的正极连接。
3.根据权利要求1所述的过零检测电路,其特征在于,所述过零检测电路还包括:第一电阻、第二电阻,其中,所述零线通过所述第二电阻与第二光耦的发光二极管的负极连接,所述火线通过第一电阻与所述第一光耦的双向可控硅的第一端连接。
4.根据权利要求1所述的过零检测电路,其特征在于,所述过零检测电路还包括:第三电阻、第四电阻,其中,所述第一光耦的发光二极管的负极通过所述第三电阻与第一三极管的发射极连接,所述第二光耦的光电三极管的发射极通过第四电阻连接第二三极管的集电极。
5.根据权利要求1所述的过零检测电路,其特征在于,所述过零检测电路还包括:第五电阻和第六电阻,所述控制信号通过所述第六电阻传输给第一三极管的基极,所述第二光耦的光电三极管的集电极通过第五电阻连接所述第二三极管的基极。
6.一种控制方法,其特征在于,应用于权利要求1至5任一项所述的过零检测电路,所述方法包括:
在确定需要控制电器的继电器执行开关动作的情况下,输出预设时长的高电平的控制信号至所述过零检测电路,其中,预设时长对应至少一个交流电的正弦波周期;
获取所述过零检测接口的检查信号;
在所述检查信号表征由低电平转变为高电平的情况下,控制所述继电器执行开关动作。
7.根据权利要求6所述的控制方法,其特征在于,所述方法还包括:
在确定不需要控制继电器执行开关动作的情况下,持续输出低电平信号的控制信号至所述过零检测电路。
8.一种控制装置,其特征在于,应用于权利要求1至5任一项所述的过零检测电路,包括:
输出模块,用于在确定需要控制电器的继电器执行开关动作的情况下,输出预设时长的高电平的控制信号至所述过零检测电路,其中,预设时长对应至少一个交流电正弦波周期;
获取模块,用于获取所述过零检测接口的检查信号;
控制模块,用于在所述检查信号表征所述过零检测接口的电平由低电平转变为高电平的情况下,控制所述继电器执行开关动作。
9.一种电子设备,其特征在于,包括存储器和处理器,所述存储器上存储有计算机程序,该计算机程序被所述处理器执行时,执行如权利要求6至7任意一项所述控制方法。
10.一种控制系统,其特征在于,包括:权利要求1至5任一项所述的过零检测电路及权利要求9所述的电子设备,其中,所述电子设备的输出端与所述第一三极管的基极连接,所述电子设备的输入端与所述过零检测接口连接,其中,所述电子设备与电器的继电器连接。
11.一种电器,其特征在于,包括:权利要求10所述的控制系统。
12.根据权利要求11所述的电器,其特征在于,所述电器包括:蒸烤箱。
13.一种存储介质,其特征在于,该存储介质存储的计算机程序,能够被一个或多个处理器执行,能够用来实现如权利要求6至7任意一项所述控制方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海格力电器股份有限公司,未经珠海格力电器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211245992.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种去除硅片表面颗粒的抛光工艺
- 下一篇:用于制曲车间曲粉的下料装置