[发明专利]一种低精细度F-P腔制备装置及方法

权利要求书

1.一种低精细度F-P腔制备装置，其特征在于，包括：宽谱光源(1)、2×1耦合器(2)、扩束透镜(3)、反射球(4)、光谱仪(5)；

所述2×1耦合器(2)包括第一光纤尾纤输入端、第二光纤尾纤输入端、第一空间光输出端；所述第一光纤尾纤输入端与所述宽谱光源(1)的输出端连接；所述第二光纤尾纤输入端与所述光谱仪(5)连接；所述第一空间光输出端与所述扩束透镜(3)连接；所述扩束透镜(3)与所述反射球(4)同轴放置。

2.根据权利要求1所述的低精细度F-P腔制备装置，其特征在于，

所述2×1耦合器(2)用于将宽谱光进行耦合后进入到扩束透镜(3)，并经过所述反射球(4)进行反射，经过所述扩束透镜(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中进行输出。

3.根据权利要求1所述的低精细度F-P腔制备装置，其特征在于，

所述扩束透镜(3)用于将入射的激光进行扩束，获得激光束。

4.根据权利要求1所述的低精细度F-P腔制备装置，其特征在于，

所述反射球(4)用于将激光束反射回所述扩束透镜(3)，经过所述扩束透镜(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中，并在所述2×1耦合器(2)的第一空间光输出端和反射球(4)之间形成F-P腔。

5.根据权利要求1所述的低精细度F-P腔制备装置，其特征在于，

所述光谱仪(5)用于获取经过F-P腔输出的光谱特性。

6.一种低精细度F-P腔制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

宽谱光源(1)发射宽谱光，所述宽谱光经过2×1耦合器(2)进入扩束透镜(3)，获得激光束；所述激光束由反射球(4)反射回所述扩束透镜(3)；经过所述扩束透镜(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中，并在所述2×1耦合器(2)的第一空间光输出端和反射球(4)之间形成F-P腔。

7.根据权利要求6所述的低精细度F-P腔制备方法，其特征在于，

基于F-P腔的精细度理论公式，获得反射球(4)的反射率；基于照射到反射球面上的平行光的半径，获得反射光的半径；基于所述反射光的半径，获得对应的反射球(4)的半径；基于所述反射球(4)的反射率、半径，将所述扩束透镜(3)与所述反射球(4)同轴放置，构建低精细度F-P腔。

8.根据权利要求6所述的低精细度F-P腔制备方法，其特征在于，

所述激光束由反射球(4)反射回所述扩束透镜(3)后，经过2×1耦合器(2)进入光谱仪(5)；基于所述光谱仪(5)，获取经过所述F-P腔的干涉谱，所述干涉谱为正弦曲线。