[发明专利]光照贴图降噪方法、装置、设备和介质

说明书

本申请涉及一种光照贴图降噪方法、装置、设备和介质。所述方法包括：针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定目标像素点在光照贴图中对应的降噪参考区域；降噪参考区域内包括用于降噪参考的至少一个参考像素点；针对每个参考像素点，确定参考像素点与目标像素点在三维空间中的世界空间距离；根据世界空间距离确定参考像素点对目标像素点的光照贡献参数；根据每个参考像素点的光照贡献参数，以及光照贴图中针对参考像素点记录的光照数据，对光照贴图中针对目标像素点记录的光照数据进行降噪处理，得到降噪处理后的光照贴图。本方法可以提升针对光照贴图的降噪效果，从而提升基于光照贴图进行光照渲染的图像质量。

技术领域

本申请涉及图像处理技术，更涉及图像降噪技术领域，特别是涉及一种光照贴图降噪方法、装置、设备和介质。

背景技术

烘焙系统会对光源稳定的静态物体所受到的光照和阴影等进行预先光照计算，计算产生的结果存放在一张纹理贴图中，这张贴图可称之为光照贴图。在光源固定的场景中，使用光照贴图代替实时的光照计算，可以减少资源消耗，从而提高场景运行效率。比如，针对游戏领域，在对虚拟场景进行渲染时，可通过光照贴图代替实时的光照计算，可以提升虚拟场景的运行效率。然而，在生成光照贴图的过程中，由于各种原因（比如，光源采样时采样的数量不足）会导致最终生成的光照贴图存在较多的噪声，进而后续利用光照贴图进行光照渲染时，会导致渲染出来的图像质量较差。因此，在利用光照贴图进行光照渲染之前，通常需要对光照贴图进行降噪。

传统技术中，通常采用针对普通图像的降噪方式（比如，神经网络降噪器）对光照贴图进行降噪。由于光照贴图的特殊性，比如，光照贴图中像素距离很远的两个像素点，他们在三维空间中的距离可能很近。通过传统的降噪方式对光照贴图进行降噪，会导致降噪后的光照贴图存在接缝瑕疵，从而影响最终渲染的图像质量。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够提升降噪效果的光照贴图降噪方法、装置、设备和介质。

第一方面，本申请提供了一种光照贴图降噪方法，所述方法包括：

针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定所述目标像素点在所述光照贴图中对应的降噪参考区域；所述降噪参考区域内包括用于降噪参考的至少一个参考像素点；

针对每个所述参考像素点，确定所述参考像素点与所述目标像素点在三维空间中的世界空间距离；

根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的光照贡献参数；

根据每个所述参考像素点的所述光照贡献参数，以及所述光照贴图中针对所述参考像素点记录的光照数据，对所述光照贴图中针对所述目标像素点记录的光照数据进行降噪处理，得到降噪处理后的光照贴图。

第二方面，本申请提供了一种光照贴图降噪装置，所述装置包括：

确定模块，用于针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定所述目标像素点在所述光照贴图中对应的降噪参考区域；所述降噪参考区域内包括用于降噪参考的至少一个参考像素点；针对每个所述参考像素点，确定所述参考像素点与所述目标像素点在三维空间中的世界空间距离；根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的光照贡献参数；

降噪模块，用于根据每个所述参考像素点的所述光照贡献参数，以及所述光照贴图中针对所述参考像素点记录的光照数据，对所述光照贴图中针对所述目标像素点记录的光照数据进行降噪处理，得到降噪处理后的光照贴图。

在一个实施例中，所述确定模块还用于针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定本轮降噪处理中所述目标像素点对应的降噪参考区域；

所述确定模块还用于将本轮降噪处理后的光照贴图作为下一轮待降噪的光照贴图，并将下一轮作为新的一轮，返回所述针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定本轮降噪处理中所述目标像素点对应的降噪参考区域以迭代降噪，直至满足迭代停止条件。