[发明专利]光照贴图降噪方法、装置、设备和介质

权利要求书

1.一种光照贴图降噪方法，其特征在于，所述方法包括：

针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定所述目标像素点在所述光照贴图中对应的降噪参考区域；所述降噪参考区域内包括用于降噪参考的至少一个参考像素点；

确定所述目标像素点在多个预设方向上对应的光照贡献距离；位于所述光照贡献距离之内的像素点对所述目标像素点具有光照贡献；

针对每个所述参考像素点，若所述参考像素点与所述目标像素点在二维空间中的像素距离未超过所述光照贡献距离，则确定所述参考像素点与所述目标像素点在三维空间中的世界空间距离；

根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的光照贡献参数；

根据每个所述参考像素点的所述光照贡献参数，以及所述光照贴图中针对所述参考像素点记录的光照数据，对所述光照贴图中针对所述目标像素点记录的光照数据进行降噪处理，得到降噪处理后的光照贴图。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定所述目标像素点在所述光照贴图中对应的降噪参考区域，包括：

针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定本轮降噪处理中所述目标像素点对应的降噪参考区域；

所述方法还包括：

将本轮降噪处理后的光照贴图作为下一轮待降噪的光照贴图，并将下一轮作为新的一轮，返回所述针对待降噪的光照贴图中每一个目标像素点，确定本轮降噪处理中所述目标像素点对应的降噪参考区域以迭代降噪，直至满足迭代停止条件。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在前预设轮次内的每轮降噪处理中，是根据第一滤波核的采样范围确定所述目标像素点对应的降噪参考区域；在所述前预设轮次之后的每轮降噪处理中，是根据第二滤波核的采样范围确定所述目标像素点对应的降噪参考区域；其中，所述第一滤波核的采样范围小于所述第二滤波核的采样范围。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的光照贡献参数，包括：

根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的距离影响参数；所述距离影响参数用于表征所述世界空间距离对光照贡献的影响程度；

根据所述距离影响参数确定光照贡献参数。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述世界空间距离确定所述参考像素点对所述目标像素点的距离影响参数，包括：

根据所述世界空间距离和预先设置的距离调整参数，确定距离表征参数；所述距离表征参数，用于表征所述参考像素点与所述目标像素点在三维空间中的世界空间距离的远近；

根据所述距离表征参数确定所述参考像素点对所述目标像素点的距离影响参数。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述距离影响参数确定光照贡献参数，包括：

确定法线影响参数和亮度影响参数中的至少一种；所述法线影响参数用于表征所述目标像素点的法线和所述参考像素点的法线对光照贡献的影响程度；所述亮度影响参数用于表征所述目标像素点的亮度和所述参考像素点的亮度对光照贡献的影响程度；所述法线影响参数是根据所述目标像素点的法线和所述参考像素点的法线确定的；所述亮度影响参数是根据所述目标像素点的亮度和所述参考像素点的亮度确定的；

根据所述距离影响参数、所述法线影响参数和所述亮度影响参数中的至少一种，确定所述参考像素点对所述目标像素点的光照贡献参数。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

若所述参考像素点与所述目标像素点在二维空间中的像素距离已超过所述光照贡献距离，则判定所述参考像素点对所述目标像素点没有光照贡献。