[发明专利]显示装置在审
申请号: | 202211221558.3 | 申请日: | 2022-10-08 |
公开(公告)号: | CN115968229A | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 郑在佑;李周炫;苏炳洙;姜泰旭 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H10K59/126 | 分类号: | H10K59/126;H01L27/12;H10K50/844 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艳;玉昌峰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 | ||
1.一种显示装置,其中,包括:
基板,包括依次层叠的下有机层、下阻挡层、上有机层以及上阻挡层;
像素电路层,位于所述基板上;以及
显示要件层,位于所述像素电路层上,
所述上阻挡层包括:
第一无机阻挡层,配置在所述上有机层上;
屏蔽层,配置在所述第一无机阻挡层上,并包含氧化物半导体物质;以及
第二无机阻挡层,配置在所述屏蔽层上。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述屏蔽层包含铟镓锌氧化物、铟锡锌氧化物以及铟锡镓锌氧化物中的任意一种以上。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述屏蔽层的厚度是至
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述屏蔽层覆盖所述基板的整个面。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述上有机层包含聚酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述显示装置还包括:
第一缓冲层以及第二缓冲层,介于所述基板和所述像素电路层之间,
所述第二无机阻挡层包含第一无机绝缘物质,
所述第一缓冲层包含第二无机绝缘物质,
所述第二无机绝缘物质包括硅氮化物,
所述第一无机绝缘物质以及所述第二无机绝缘物质是彼此不同的物质。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,
所述第一无机绝缘物质包括硅氧化物。
8.根据权利要求6所述的显示装置,其中,
所述第一无机阻挡层包含所述第一无机绝缘物质。
9.根据权利要求6所述的显示装置,其中,
所述第二无机阻挡层的厚度、所述第一缓冲层的厚度以及所述第二缓冲层的厚度之和是至
10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述像素电路层包括薄膜晶体管以及所述薄膜晶体管上的电极层,
所述薄膜晶体管包括半导体层以及至少一部分与所述半导体层重叠的栅极电极,
所述屏蔽层包含与所述半导体层相同的物质。
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