[发明专利]用于衬底切分的设备及方法在审

专利信息
申请号: 202211198019.2 申请日: 2022-09-29
公开(公告)号: CN115870634A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 张城豪;徐敏焕;李璋辉;权宁喆;裴祥佑;大久保彰律;李贞彻;朱愿暾 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/064;B23K26/70;H01L21/78;B23K101/40
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;肖学蕊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 衬底 切分 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于切分衬底的方法,包括:

设置用于在目标衬底内形成第一改造区的目标高度,所述目标高度是从所述目标衬底的上表面至所述第一改造区的距离;

向包括第一膜和与所述第一膜接触的第二膜的第一样本衬底辐射激光束,并且基于致使在所述第一膜的与所述第二膜接触的上表面上形成所述激光束的会聚点的样本条件设置目标条件;以及

根据所述目标条件用所述激光束辐射所述目标衬底,以在所述目标衬底内形成所述第一改造区,

其中,所述第二膜的厚度是所述目标高度。

2.根据权利要求1所述的用于切分衬底的方法,其中,所述目标衬底包括与所述第二膜相同的材料。

3.根据权利要求1所述的用于切分衬底的方法,其中,所述第一膜对所述激光束的反射率大于所述第一膜对所述激光束的吸收率。

4.根据权利要求1所述的用于切分衬底的方法,还包括:

设置所述样本条件,其中:

设置所述样本条件的步骤包括以下中的至少一个:

设置所述第一样本衬底与用于使用所述激光束辐射所述第一样本衬底的光学系统之间的第一距离,和

设置所述光学系统的校正环值中的至少一个。

5.根据权利要求4所述的用于切分衬底的方法,其中,设置所述目标条件的步骤还包括:

根据所述样本条件用所述激光束辐射第二样本衬底以在所述第二样本衬底内形成第二改造区,

获取所述第二改造区的成像数据,以及

基于所述成像数据调整所述样本条件和设置所述目标条件。

6.根据权利要求5所述的用于切分衬底的方法,其中,基于所述成像数据调整所述样本条件和设置所述目标条件的步骤包括:

基于所述成像数据获取所述第二样本衬底与所述光学系统之间的第二距离和所述第二改造区的长度,以及

基于所述第二距离和所述第二改造区的长度调整所述激光束的功率。

7.根据权利要求4所述的用于切分衬底的方法,其中,所述激光束是第一激光束,并且设置所述样本条件的步骤还包括:

监视由辐射至所述第一样本衬底的所述第一激光束被所述第一膜的所述上表面反射导致的第二激光束,以设置所述样本条件。

8.根据权利要求7所述的用于切分衬底的方法,其中,设置所述样本条件的步骤还包括:

重复地设置所述第一样本衬底与用所述第一激光束辐射所述第一样本衬底的光学系统之间的第一距离,根据设置的第一距离移动所述第一样本衬底和所述光学系统中的至少一个,然后获取通过对辐射至所述第一样本衬底的所述第一激光束被所述第一膜的所述上表面反射所得的第二激光束成像获得的成像数据,以及

基于重复地成像的所述成像数据设置根据运动的校正值。

9.根据权利要求4所述的用于切分衬底的方法,其中,设置所述样本条件的步骤还包括:

监视辐射至所述第一样本衬底特定时长的所述激光束被所述第一膜的所述上表面反射所得的第二激光束,以设置随时间的校正值。

10.根据权利要求4所述的用于切分衬底的方法,其中,设置所述样本条件的步骤还包括:

根据所述第一样本衬底与用所述激光束辐射所述第一样本衬底的光学系统之间的距离监视辐射至所述第一样本衬底的所述激光束的所述会聚点的运动,并且确定异常的类型。

11.一种用于切分衬底的方法,包括:

用第一激光束辐射包括第一膜和与所述第一膜接触的第二膜的第一样本衬底;

监视所述第一激光束被所述第一膜的与所述第二膜接触的上表面反射导致的第二激光束,并且基于致使所述第一激光束在所述第一膜的所述上表面上形成会聚点的样本条件设置目标条件;以及

根据所述目标条件在与所述第一样本衬底不同的目标衬底内形成第一改造区,并且切分所述目标衬底。

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