[发明专利]一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统

说明书

本发明公开了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统，涉及掩膜版数据处理领域，其中，所述方法包括：得到生产参数信息；得到初始图像采集结果，根据定位特征识别结果进行初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，在第二图像采集时间进行目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；结合初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；根据关联关系构建结果生成生产优化参数；基于生产优化参数进行掩膜版的生产优化。达到了提高掩膜版的图像检测的准确性，进而提高掩膜版的缺陷检测效果，有效地提升了掩膜版的生产质量等技术效果。

技术领域

本发明涉及掩膜版数据处理领域，具体地，涉及一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统。

背景技术

掩膜版是半导体生产的重要材料之一。在掩膜版的实际生产过程中，不可避免地产生缺陷，这些缺陷在曝光时会对半导体产品产生极大的影响，容易导致半导体产品报废，造成经济损失。除此之外，缺陷还会损害掩膜版的寿命。缺陷已成为影响掩膜版生产的重要问题。

现有技术中，存在针对掩膜版的图像检测准确性不足，进而造成掩膜版的缺陷检测效果不佳，极大地降低了掩膜版的生产质量的技术问题。

发明内容

本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统，解决了现有技术中针对掩膜版的图像检测准确性不足，进而造成掩膜版的缺陷检测效果不佳，极大地降低了掩膜版的生产质量的技术问题。

鉴于上述问题，本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统。

第一方面，本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法，其中，所述方法应用于一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统，所述系统与图像采集装置通信连接，所述方法包括：采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别，基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，其中，所述异常特征匹配结果具有位置标识；根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。

第二方面，本申请还提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统，其中，所述系统与图像采集装置通信连接，所述系统包括：信息调用模块，所述信息调用模块用于采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；第一图像采集模块，所述第一图像采集模块用于通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；识别校正模块，所述识别校正模块用于基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别，基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正；异常特征匹配模块，所述异常特征匹配模块用于对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，其中，所述异常特征匹配结果具有位置标识；第二图像采集模块，所述第二图像采集模块用于根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；特征比对模块，所述特征比对模块用于基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；生产优化参数确定模块，所述生产优化参数确定模块用于基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；生产优化模块，所述生产优化模块用于基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。