[发明专利]一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统有效
申请号: | 202211187420.6 | 申请日: | 2022-09-28 |
公开(公告)号: | CN115272329B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 杨伟;谢双军 | 申请(专利权)人: | 中科卓芯半导体科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06Q10/04;G06Q50/04;G06V10/74;G01N21/956 |
代理公司: | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 | 代理人: | 李蓉蓉 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 图像 检测 掩膜版 生产 优化 方法 系统 | ||
1.一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法,其特征在于,所述方法应用于优化控制系统,所述优化控制系统与图像采集装置通信连接,所述方法包括:
采集目标掩膜版的标识信息,基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用,得到生产参数信息;
通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集,得到初始图像采集结果,其中,所述初始图像采集结果具有第一时间标识;
基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别,基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正;
对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配,得到异常特征匹配结果,其中,所述异常特征匹配结果具有位置标识;
根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间,在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集,得到认证图像采集结果;
基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对,获得新增特征信息,所述新增特征信息包括目标掩膜版的 雾状缺陷信息 ;
基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系,并基于关联关系构建结果生成生产优化参数;
基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
基于所述异常特征匹配结果进行特征分类,得到软缺陷特征集合和硬缺陷特征集合;
基于所述软缺陷特征集合生成清洗优化参数;
通过所述硬缺陷特征集合进行所述目标掩膜版的可用评价;
当所述可用评价结果满足预期阈值时,则通过所述清洗优化参数进行所述目标掩膜版的清洗处理。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
当所述可用评价结果不满足所述预期阈值时,则根据所述硬缺陷特征集合生成硬缺陷修复参数;
基于所述硬缺陷修复参数进行所述目标掩膜版的硬缺陷修复,得到修复目标掩膜版;
根据所述硬缺陷修复参数和所述清洗优化参数获得更新清洗优化参数;
基于所述更新清洗优化参数进行所述修复目标掩膜版的清洗处理。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
对同批次掩膜版的异常特征匹配结果和新增特征信息进行出现频次匹配,得到频次占比统计结果;
基于大数据设定特征评价值集合;
基于所述特征评价值集合进行新增特征信息和异常特征匹配结果的特征值计算,得到特征值计算结果;
基于所述频次占比统计结果和所述特征值计算结果得到异常评价值;
当所述异常评价值满足预期评价阈值时,则基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系,并基于关联关系构建结果生成生产优化参数。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
判断所述定位特征识别结果是否存在位置异常;
当判断存在位置异常时,生成所述目标掩膜版的重新置放指令;
根据所述重新置放指令对所述目标掩膜版进行重新置放后,重新进行图像采集。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行特征定位点识别,得到特征定位点识别结果;
基于所述特征定位点识别结果进行特征尺寸测量,生成尺寸测量结果;
基于同批次尺寸测量结果进行尺寸同向偏离分析;
通过尺寸同向偏离分析结果获得所述生产优化参数。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
根据所述标识信息获得所述目标掩膜版的应用反馈信息;
根据所述应用反馈信息匹配优化关联参数;
通过所述优化关联参数进行掩膜版的生产优化。
8.一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统,其特征在于,所述系统与图像采集装置通信连接,所述系统包括:
信息调用模块,所述信息调用模块用于采集目标掩膜版的标识信息,基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用,得到生产参数信息;
第一图像采集模块,所述第一图像采集模块用于通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集,得到初始图像采集结果,其中,所述初始图像采集结果具有第一时间标识;
识别校正模块,所述识别校正模块用于基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别,基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正;
异常特征匹配模块,所述异常特征匹配模块用于对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配,得到异常特征匹配结果,其中,所述异常特征匹配结果具有位置标识;
第二图像采集模块,所述第二图像采集模块用于根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间,在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集,得到认证图像采集结果;
特征比对模块,所述特征比对模块用于基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对,获得新增特征信息,所述新增特征信息包括目标掩膜版的雾状缺陷信息 ;
生产优化参数确定模块,所述生产优化参数确定模块用于基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系,并基于关联关系构建结果生成生产优化参数;
生产优化模块,所述生产优化模块用于基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。
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