[发明专利]一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备

说明书

本申请涉及一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备，该装置包括光罩放置平台，位于光刻机内部；抓取部件，用于在控制器的控制下抓取光罩；信息采集模块，包括位于所述光罩放置平台上方的摄像装置；微粒吹扫部件，包括至少一个吹扫气枪，位于所述光罩放置平台上方；控制器，用于确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制所述抓取部件抓取所述光罩并放置在所述光罩放置平台上，并控制所述摄像装置采集图片，根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。本申请自动放置有微粒的光罩至光罩放置平台并定位微粒位置，控制吹扫气枪对准并清除微粒，提高生产效率，降低光罩损耗率。

技术领域

本申请涉及半导体光刻技术领域，尤其涉及一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备。

背景技术

在半导体领域，将集成电路图设计在光罩上，通过曝光将光罩上的图案映射在晶圆上。在实际生产中，机台内部会产生一些微粒落在光罩上。在曝光过程中，这会造成晶圆上的电路图像与设计电路不符合，影响电路图功能的实现，导致产品良率下降，严重的话还会造成晶圆的报废。

目前光罩在曝光前，光刻机机台会主动对光罩进行一次检查。如果光罩上的微粒大于设定的阈值,机台会报错。工作人员需要手动将光罩取出，在强光灯下用气枪将微粒吹除，这样做不仅费时费力，而且操作不慎的话，还会对光罩造成损伤，也会影响到光刻机机台的工作效率。

发明内容

本申请提供一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备，在光刻机机台检测到微粒后，可以自动定位光罩上的微粒并清除，提升生产效率。

第一方面，本申请提供一种自动清除光罩微粒的装置，包括：

光罩放置平台，位于光刻机内部，用于放置光罩；

抓取部件，用于在控制器的控制下抓取光罩；

信息采集模块，包括位于所述光罩放置平台上方的摄像装置；

微粒吹扫部件，包括至少一个吹扫气枪，位于所述光罩放置平台上方；

控制器，用于确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制所述抓取部件抓取所述光罩并放置在所述光罩放置平台上，并控制所述摄像装置采集图片，根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。

在一个或多个实施例中，该装置还包括：

接触式压力传感器，位于所述光罩放置平台上，用于检测到光罩放置到所述光罩放置平台上时，给所述控制器发送指示信号；

电磁卡扣，位于所述光罩放置平台周围，用于接收所述控制器根据所述指示信号发送的锁定指令，将所述光罩锁定在所述光罩放置平台上。

在一个或多个实施例中，该装置还包括：

与摄像装置连接的第一步进电机，所述控制器通过控制第一步进电机转动摄像装置，其中，在光罩放置到所述光罩放置平台上时，控制摄像装置转动至初始位置，在确定所述微粒的物理位置坐标后，控制所述摄像装置对焦所述微粒的坐标位置。

在一个或多个实施例中，该装置还包括：

与所述吹扫气枪连接的第二步进电机，所述控制器通过控制所述第二步进电机控制所述吹扫气枪对准微粒的方向。

在一个或多个实施例中，该装置还包括：

至少一个可伸缩式电动支撑杆，位于所述光罩放置平台下方，所述控制器通过调整所述可伸缩式电动支撑杆的高度，调整所述光罩放置平台的高度及倾斜角度。

在一个或多个实施例中，该装置还包括：

微粒吸收装置，位于所述光罩放置平台四周，所述控制器通过控制所述微粒吸收装置在设定区间内摆动，吸收被吹扫掉的微粒。