[发明专利]光刻机照明均匀性校正装置的校正方法

说明书

本发明公开了一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，该方法将传统遗传算法应用于光刻机照明均匀性校正装置中，通过校正单元对照明积分均匀性标定、相邻校正单元对光瞳均匀性的标定以及相对校正单元对光瞳均匀性的标定找到校正单元位置信息与照明积分均匀性以及光瞳均匀性的相互关系，并以此为适应度函数，并且通过照明积分均匀性波形校正找到的校正单元位置解能大大缩小传统遗传算法中的随机初解群，使得照明积分均匀性校正优化能更快速、更高效地找到最优解。

技术领域

本发明涉及光刻机照明系统，特别是一种光刻机照明系统的照明均匀性校正装置的校正方法。

背景技术

在光刻机中，照明系统的作用是将激光器出射的光束进行一些调整，为掩膜提供高质量的照明场，从而保证掩膜图形通过投影物镜高质量的成像至硅片面上。均匀的照明场能够降低光刻工艺因子，提高整个光刻系统的分辨率。但随着光刻技术的不断发展，特征尺寸的不断减小，光刻对照明系统的均匀性要求也随之不断提高，如，90nm光刻机中的照明系统的均匀性要求在1％左右，而65nm以及45nm光刻机中的照明系统的不仅要求均匀性达到0.2％，而且要求均匀性波形曲线符合某种分布特征，这样仅仅使用传统的匀光器件以及匀光方法已经很难满足均匀性要求，因此为了达到照明系统的均匀性要求，需要在系统中增加照明均匀性校正装置。

在先技术(US7173688)描述了一种手指式的均匀性校正装置。该装置在照明视场扫描方向的两边对称排布着多个校正单元，每个校正单元均呈矩形平板结构，并且均可独立的沿视场的扫描方向插入视场边缘以遮挡部分照明光，达到调整照明视场在扫描方向的积分能量分布均匀性的目的。该专利不仅简单阐述了单元在照明场内的作用机理，并且阐述了该校正方法对照明光瞳的对称度、椭圆度以及能量损失等的影响，而且描述了一种基于加权最小二乘法的校正方法。

在先技术(US20070103665)描述了一种单元式的均匀性校正装置，该装置与在先技术(US7173688)描述的校正方法类似，前者着重阐述了单元的形状与排布对校正能力的影响，其校正方法同样也是基于加权最小二乘法。

而在先技术(CN101221373)以及在先技术(CN1027220901)描述了的校正装置均与先技术(US7173688)描述的类似，前二者只是针对校正单元的形状以及排布进行了改进，实现不同的校正效果，并没有涉及校正装置的校正算法。

发明内容

虽然上述照明系统的照明均匀性校正装置能调整照明场的均匀性，但是同样也会干扰照明光瞳均匀性(如：照明光瞳的对称度和椭圆度等)，也就是说每一个校正单元在照明视场的扫描方向的位置，决定了照明积分均匀性以及光瞳均匀性。本发明的目的是针对上述在先技术的不足，提供一种光刻机照明系统的照明均匀性校正装置的校正方法，该校正方法旨在确定每一个校正单元的位置，使其不仅满足照明积分均匀性的要求，而且要满足对照明光瞳均匀性的影响达到最小。进一步，将遗传算法融合于该校正方法中，使得该校正方法能够高效的、准确的找到符合照明系统要求的校正单元位置。

本发明的技术解决方案如下：

一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，所述光刻机照明均匀性校正装置包括：基座、上校正模块和下校正模块，所述上校正模块和下校正模块具有相同结构,分别固定于所述基座的上部与下部，并相对于所述基座的中心平面对称分布；光刻机照明光场垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场为光轴方向，即z轴，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向，即y轴，x轴为光刻机照明系统的非扫描方向；所述上校正模块和下校正模块在光刻机照明光场的扫描方向对称排布多个校正单元；

所述校正方法用于确定各个校正单元在光刻机照明光场的扫描方向的位置，所述校正方法包括下列步骤：

a)：利用校正单元对照明积分均匀性进行标定；

b)：利用校正单元对光瞳均匀性进行标定；