[发明专利]光刻机照明均匀性校正装置的校正方法

权利要求书

1.一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，其特征在于，所述光刻机照明均匀性校正装置包括：基座、上校正模块和下校正模块，所述上校正模块和下校正模块具有相同结构,分别固定于所述基座的上部与下部，并相对于所述基座的中心平面对称分布；光刻机照明光场垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场为光轴方向，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向；所述上校正模块和下校正模块在光刻机照明光场的扫描方向对称排布多个校正单元；

所述校正方法用于确定各个校正单元在光刻机照明光场的扫描方向的位置，所述校正方法包括下列步骤：

a)：利用校正单元对照明积分均匀性进行标定；

b)：利用校正单元对光瞳均匀性进行标定；

c)：根据照明积分均匀性标定和光瞳均匀性标定所获得的数据对照明积分均匀性波形进行校正；

d)：是否满足照明积分均匀性波形分布要求，若是，对照明积分均匀性校正进行优化，以确定各个校正单元在光刻机照明光场的扫描方向的位置。

2.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，步骤a)包括步骤：

a1)：初始化，设置所有校正单元处于照明视场外，且规定此处校正单元的位移为零；距离零点为s_max，且处于照明视场内为校正单元的最大位移；

a2)：选定一个校正单元进行标定；

a3)：测量照明视场在扫描方向的积分均匀性，并做归一化处理；

a4)：判断校正单元是否处于最大极限位移，若否，执行步骤a5，若是，执行步骤a6；

a5)：将校正单元在扫描方向的位移增加一固定值s_max/n，并返回所述步骤a2；

a6)：将当前校正单元的位移归零，及将所测的归一化积分均匀性与对应校正单元的位移进行多项式拟合；

a7)：判断是否所有校正单元均被标定，若否，则返回所述步骤a2，若是，则结束校正单元对照明积分均匀性的标定。

3.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述利用校正单元对光瞳均匀性标定包括步骤：

b1)：利用相邻校正单元对光瞳均匀性进行标定；

b2)：利用相对校正单元对光瞳均匀性进行标定。

4.如权利要求3所述的校正方法，其特征在于，步骤b1)包括步骤：

b11)：初始化；

b12)：选定一对相邻校正单元进行标定，并设定其中一个为主校正单元，另一个为从校正单元；

b13)：测量照明视场光瞳均匀性，并做归一化处理；

b14)：判断从校正单元是否处于最大极限位移，若否，执行步骤b15，若是，执行步骤b16；

b15)：将从校正单元在扫描方向的位移增加一固定值s_max/n，并返回步骤b13；

b16)：判断主校正单元是否处于最大位移，若否，执行步骤b17，若是，执行步骤b18；

b17)：将当前处于最大极限位移的从校正单元的位移归零，并将主校正单元在扫描方向的位移增加一固定值s_max/n，返回所述步骤b13；

b18)：将当前主校正单元的位移归零，将所测得的归一化光瞳均匀性与对应主、从校正单元的位移采用散点曲面重构法进行曲面拟合；

b19)判断是否所有相邻校正单元均完成标定，若否，则返回所述步骤b12，若是，则结束相邻校正单元对光瞳均匀性的标定。