[发明专利]定位装置及定位方法在审

专利信息
申请号: 202210937383.X 申请日: 2022-08-05
公开(公告)号: CN115704780A 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 青木阳太 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/88;G01N21/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 杨薇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 定位 装置 方法
【说明书】:

定位装置(EA)具备:发出光的发光机构(10)、使由发光机构(10)发出的光发生反射而照射于定位对象物(WK)的反射机构(20)、对照射有光的定位对象物(WK)进行拍摄的拍摄机构(30)、以及基于拍摄机构(30)的拍摄结果使定位对象物(WK)移动、对该定位对象物(WK)进行定位的移动机构(40),反射机构(20)具备使由发光机构(10)发出的光发生漫反射的漫反射机构(21)。

发明所属的技术领域

本发明涉及定位装置及定位方法。

背景技术

已知有用拍摄机构拍摄被光照射的定位对象物并基于拍摄机构的拍摄结果而对定位对象物进行定位的定位装置(参见例如文献1:日本特开2007-121120号公报)。

在文献1所记载的晶片外观检查装置A(定位装置)中,由于用反射镜4对光源1(发光机构)发出的光进行镜面反射而对被检测物B(定位对象物)进行照射,因此,在定位对象物的被拍摄面的镜面反射倾向强的情况下,发光机构所发出的光的外边缘会被显眼地映入被拍摄面。因此,在照相机3(拍摄机构)拍摄定位对象物时,会将由定位对象物的被拍摄面所反射的光的外边缘误识别为该定位对象物的外边缘,发生无法将定位对象物定位于期望的位置、或引发定位对象物的定位本身无法进行的定位不良这样的不良情况。

发明内容

本发明的目的在于提供能够防止发生因误识别定位对象物的位置所导致的定位不良的定位装置及定位方法。

本发明采用了权利要求所记载的方案。

根据本发明,由于是使由发光机构发出的光发生漫反射而照射于定位对象物,因此,该发光机构发出的光的外边缘不会被显眼地映入被拍摄面,能够防止发生因误识别定位对象物的位置所导致的定位不良。

附图说明

图1为本发明的一个实施方式的定位装置的说明图。

具体实施方式

以下,基于图1对本发明的一个实施方式进行说明。

需要说明的是,本实施方式中的X轴、Y轴、Z轴分别成正交的关系,X轴及Y轴设为给定平面内的轴,Z轴设为与上述给定平面正交的轴。另外,在本实施方式中,以从与Y轴平行的图1的正前方向观察的情况作为基准,在表示方向时,“上”为Z轴的箭头方向,“下”为其反方向,“左”为X轴的箭头方向,“右”为其反方向,“前”为Y轴的箭头方向,“后”为其反方向。

定位装置EA具备:发光机构10,其实施发出光的发光工序;反射机构20,其实施使由发光机构10发出的光发生反射而照射于定位对象物WK的反射工序;拍摄机构30,其实施对照射有光的定位对象物WK进行拍摄的拍摄工序;以及,移动机构40,其实施基于拍摄机构30的拍摄结果使定位对象物WK移动、对该定位对象物WK进行定位的移动工序。

发光机构10具备用LED(发光二极管、Light Emitting Diode)灯发光的发光设备11,其被配置于不会映入至拍摄机构30所拍摄的定位对象物WK的被拍摄面WK1的位置。在本实施方式中,通过在映入被拍摄面WK1的拍摄机构30的视场FV外侧配置发光机构10,从而使得发光机构10不会被映入该拍摄机构30所拍摄的定位对象物WK的被拍摄面WK1。

反射机构20具备使发光机构10发出的光发生漫反射的漫反射机构21。在本实施方式的情况下,漫反射机构21由不锈钢板制成,其表面(下表面)形成为通过喷砂、蚀刻处理等表面处理而形成有微细凹凸的反射面21A,在中央部形成有用于使拍摄机构30拍摄定位对象物WK的通孔21B。

拍摄机构30具备由照相机、摄像机等构成的拍摄设备31,以利用反射机构20而使发光机构10所发出的光不直接射入的方式配置。在本实施方式中,通过使拍摄机构30配置在通过了通孔21B的发光设备11的光线DL间的外侧,从而使得发光机构10所发出的光不会直接射入该拍摄机构30。

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