[发明专利]定位装置及定位方法在审
| 申请号: | 202210937383.X | 申请日: | 2022-08-05 |
| 公开(公告)号: | CN115704780A | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
| 发明(设计)人: | 青木阳太 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
| 主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 杨薇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 定位 装置 方法 | ||
1.一种定位装置,其具备:
发出光的发光机构、
使由所述发光机构发出的光发生反射而照射于定位对象物的反射机构、
对照射有光的所述定位对象物进行拍摄的拍摄机构、以及
基于所述拍摄机构的拍摄结果使所述定位对象物移动、对该定位对象物进行定位的移动机构,
所述反射机构具备使由所述发光机构发出的光发生漫反射的漫反射机构。
2.根据权利要求1所述的定位装置,其中,所述发光机构配置在不映入所述拍摄机构所拍摄的所述定位对象物的被拍摄面的位置。
3.根据权利要求1或2所述的定位装置,其中,所述拍摄机构以利用所述反射机构而使所述发光机构发出的光不直接射入的方式配置。
4.一种定位方法,该方法包括:
发出光的发光工序、
使在所述发光工序中发出的光发生反射而照射于定位对象物的反射工序、
对照射有光的所述定位对象物进行拍摄的拍摄工序、以及
基于所述拍摄工序的拍摄结果使所述定位对象物移动、对该定位对象物进行定位的移动工序,
在所述反射工序中,进行使在所述发光工序中发出的光发生漫反射的漫反射工序。
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