[发明专利]定位标记、掩膜板及光刻定位方法

说明书

本发明提供一种定位标记、掩膜板及光刻定位方法，涉及光刻技术领域，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。能够使工件实现沿第一方向线的方向上对准，用户可以根据沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离调整工件位置，使调整工件位置过程更加准确和便捷。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种对晶圆进行套刻定位的定位标记、掩膜板及光刻定位方法。

背景技术

光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将掩膜板上的图形转移到所在衬底上。

在外延生长后，为了对晶体的生长方向进行标记，将晶圆的左侧解理成平边。但是在光刻定位时，晶圆左边的平边能够定位晶圆的左右位置，晶圆的上下位置却无法定位。

发明内容

本发明的目的在于提供一种定位标记，以解决现有技术中无法对晶圆进行上下定位的技术问题。

本发明提供的定位标记，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；

所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；

所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；

所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。

进一步地，所述第二透明区与所述第一透明区连通并形成阶梯结构。

进一步地，所述测距结构包括多个刻度线，多个所述刻度线沿第一方向线均匀间隔设置；

位于多个所述刻度线中一端的刻度线设置在所述第一透明区内，位于多个所述刻度线中另一端的刻度线设置在所述第二透明区内。

进一步地，所述第二透明区为弧形；

所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；

所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线间隔设置，所述第二透明区形成所述测距结构。

进一步地，所述第二透明区为多个；

多个所述第二透明区中的第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线均匀间隔设置，且多个所述第二透明区依次连通并形成阶梯结构；多个所述第二透明区形成所述测距结构。

进一步地，所述第二透明区为弧形；

所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；

所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线间隔设置；沿所述第一弧形边缘的周向，所述第一透明区与所述第二透明区间隔设置；所述第一弧形边缘的半径、所述第二弧形边缘的半径和所述第三弧形边缘的半径相等；所述第二透明区形成所述测距结构。

进一步地，所述第二透明区为多个；

多个所述第二透明区中的第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线均匀间隔设置；