[发明专利]高功率纳秒腔外五倍频激光器

权利要求书

1.一种高功率纳秒腔外五倍频激光器的设计，其特征在于包括高功率纳秒二三倍频光产生系统，五倍频和频系统，所述的高功率纳秒二三倍频产生系统其结构依次包括全反镜（11），Q开光（12），透镜（131），激光晶体（14），透镜（132），二向色镜（15），和频晶体一（16），和频晶体二（17），多波长反射镜（18）和两个高功率泵浦耦合系统组成，所述的五倍频和频系统，其结构依次包括为二向色镜（21），二倍频光路系统，三倍光路系统，二向色镜（24），五倍频晶体（25），分束装置（26）以及挡光装置（27）。

2.根据权利要求1所述的高功率纳秒二三倍频光产生系统，其中高功率泵浦耦合系统为双端泵泵浦系统，两个高功率光纤耦合模块通过耦合系统（191），耦合系统（192）共同泵浦激光晶体（14），泵浦系统采用878nm或者888nm的泵浦光，产生更高的泵浦功率和更低的热效应。

3.根据权利要求1所述的高功率纳秒二三倍频光产生系统，其中二向色镜（15）为低通滤光片，用于让基频光在腔内振荡，而让高次和频光通过二向色镜（15）出射。

4.根据权利要求1所述的高功率纳秒二三倍频光产生系统，其中二向色镜（15）和多波长反射镜（18）可以为平凹镜或者平平镜片，两者相互配合可以控制在和频晶体上的光斑尺寸，从而提高和频效率。

5.根据权利要求1所述的高功率纳秒二三倍频光产生系统，其中和频晶体一（16），和频晶体二（17）为基频光的三倍频和二倍频晶体，所有晶体放置于使用TEC精确控温的热沉中，用于对出光功率的精确控制。

6.根据权利要求1所述的五倍频和频系统，其中二倍频光路系统的特征在于，二倍频光通过二向色镜（21）后透射传播，通过反射镜（22）后改变传播方向，通过耦合透镜（23）汇聚后，再通过二向色镜（24）反射进入到五倍频晶体（25）中，其中三倍频光路系统的特征在于三倍光通过二向色镜（21）后反射传播，通过反射镜（31）后改变传播方向后，改变传播方向后的三倍频光先通过波片（32）改变偏振状态后，再通过耦合透镜（33）进行汇聚，最后通过二向色镜（24）后进入到五倍频晶体（25）中。

7.根据权利要求1所述五倍频和频系统，其中二倍频光路系统和三倍频光路系统的光程距离相等。

8.根据权利要求1所述五倍频和频系统，二倍频光和三倍频光在进入到五倍频晶体时，在焦点位置和空间传播方向上重合。

9.根据权利要求1所述的五倍频和频系统，其中五倍频和频晶体（25）为深紫外和频晶体，晶体选择为BBO晶体或者CLBO晶体。

10.根据权利要求6，其中二向色镜（21）为高通滤光片，用于二倍频光透过，三倍频光反射，而二向色镜（24）则为低通滤光片用于二倍频光反射，三倍频光透射，用来进行光束的合束。