[发明专利]一种用于微小零件的专用型阴极平台

说明书

本发明涉及镀膜设备技术领域，且公开了一种用于微小零件的专用型阴极平台，解决了靶材厚度减小后，使得对柔性基材表面的镀膜率降低，从而造成靶材浪费的问题，其包括底座，所述底座的顶端安装有中部板，中部板的两侧对称安装有阴极体，阴极体的底端等距安装于绝缘支架，阴极体的顶端开设有环形槽；本发明，在工作中，通过设置的齿条移动后，带动转块转动，而转块两端的螺槽内部的螺杆内部开设有限位槽，限位板插接于限位槽内部，使得在转块转动后，带动螺杆横向移动，继而推动两侧的顶块顺着弧槽向上移动，从而将磁靴顶起，从而使得磁靴在靶材处的磁场增大，从而使得靶材对柔性基片的镀膜能力提高，使得靶材表面溅射距离增加。

技术领域

本发明属于镀膜设备技术领域，具体为一种用于微小零件的专用型阴极平台。

背景技术

真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，磁场的设置尤为重要。目前普遍采用平面磁控溅射阴极(简称“平面阴极”)，平面阴极均是采用在磁靴中安装磁铁的方法来获得加速磁场，而磁靴安装于环形槽内，且其与环形槽固定连接。

当靶材厚度变小后，使得靶材与柔性基材之间距离增大，从而使得柔性基材表面镀膜率降低，从而造成靶材浪费。

发明内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种用于微小零件的专用型阴极平台，有效的解决了靶材厚度减小后，使得对柔性基材表面的镀膜率降低，从而造成靶材浪费的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于微小零件的专用型阴极平台，包括底座，所述底座的顶端安装有中部板，中部板的两侧对称安装有阴极体，阴极体的底端等距安装于绝缘支架，阴极体的顶端开设有环形槽，环形槽的内部安装有磁靴，磁靴的内部安装有磁铁，环形槽的顶端安装有第一压板，第一压板的顶端安装有第二压板，阴极体的内部安装有调距机构。

优选的，所述调距机构包括横向调节组件和纵向调节组件，其中横向调节组件包括安装于底座顶端的电机，电机的输出轴顶端安装有转板，转板的顶端安装有第一固定杆，第一固定杆的外侧转动连接有转杆，转杆的一端转动连接有第二固定杆，第二固定杆的底端安装有连接杆，连接杆的一侧对称安装有齿条，齿条插接于齿条槽内部，齿条槽开设于阴极体的内部。

优选的，所述纵向调节组件包括等距开设于阴极体内部的弧槽，纵向调节组件的内顶壁对称安装有固定环，固定环的内部安装转块，转块的外壁等角度开设有齿槽，转块的两侧对称开设有螺槽，螺槽的内部安装有螺杆，螺杆的内部开设有限位槽，限位槽的内部插接有限位板，限位板的顶端与弧槽的内顶壁固定连接，螺杆的一侧安装有顶头，顶头的一侧设有顶块，顶块对称安装于弧槽内部，其中一个顶块的一侧安装有供气调节机构。

优选的，所述齿条槽开设于齿槽下方，且齿条的顶端与齿槽啮合连接。

优选的，所述弧槽呈半圆环状，且弧槽的顶端贯穿至环形槽内部，顶块与弧槽滑动连接，顶块底端开设有斜面。

优选的，所述供气调节机构包括安装于其中一个顶块一侧的侧杆，侧杆的一侧设有活动块，活动块插接于活动槽的内部，且活动槽等距开设于阴极体内部，活动块的一侧安装有弹簧，活动块的一侧安装有顶杆，顶杆贯穿至阴极体的外部，且弹簧套接于顶杆外部，顶杆的一端安装有挡块，挡块插接于调节槽内部，调节槽的两侧对称开设有连通槽，连通槽的顶端开设有出气槽，出气槽贯穿至中部板的外部。

优选的，所述连通槽的底端开设有进气管槽，进气管槽开设于中部板内部，且进气管槽的两端安装有循环气管。

优选的，所述连通槽呈方形槽道设置，且连通槽的宽度与挡块的宽度相同，出气槽倾斜开设。

优选的，所述侧杆一端的延长线与弧槽的圆心相交，顶块的顶端与弧槽的顶端相平齐。