[发明专利]一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法

说明书

本发明涉及陶瓷砖技术领域，公开了一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法，包括由上至下依次分布的磨砂干粒釉层、抛釉层、图案层、底釉层和砖坯体；磨砂干粒釉层包括均匀分布于抛釉层表面的磨砂干粒，磨砂干粒的底部与抛釉层熔接为一体，磨砂干粒的顶部突出于抛釉层表面；柔光耐磨防滑釉面砖的光泽度跟随磨砂干粒釉的施釉量的增加而降低；磨砂干粒釉的化学成分包括SiO₂、Al₂O₃、K₂O、Na₂O、CaO、MgO、BaO、ZnO和SrO。本发明的柔光耐磨防滑釉面砖的制备方法，采用磨砂干粒釉和抛釉分两次喷施的工艺，使用较少的磨砂干粒就可将釉面的光泽度降低至5‑40°，可通过调整磨砂干粒釉的施釉量来调节制品的光泽度。

技术领域

本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法。

背景技术

相比抛光砖和亮光砖而言，柔光砖具有光辐射更少，视觉舒适度高的优点，因此，柔光砖在高标准的装饰工程中得到广泛使用。

现有技术的柔光砖的技术方案有两种，其一是通过在面釉中降低钙和锌的熔剂含量形成柔光釉，以达到降低釉面的光泽度的目的，其优点是产品出窑后只要进行磨边处理，不需要进行抛光处理，工艺简单；第二种的技术方案是通过打磨降低亮光釉面的光泽度来实现的，通过在抛光线调整磨块的组合，将釉面的光泽度降低至成20-50°获得柔光砖。

第一种方案的配方烧成温度范围较窄，制品的光泽度波动大，并且制品的光泽度越低，存在发色越差的现象，导致产品的图案和颜色的清晰度低，无法满足客户的品质要求；并且如若生产、过程中出现釉面落粧、釉泡和凹釉的缺陷时，无法通过釉面抛光处理改制为抛光砖以减少损失，存在质量合格率波动大，以及综合生产成本高的缺陷；再者，由于第一种方案的面釉配方成分与抛釉配方的成分差异较大，造成二者的发色效果差异大，如若选择较深色或颜色较鲜艳的产品设计方案时，导致制得的柔光砖和抛釉砖二者的面相颜色差异太大，使得柔光产品的面相满足不了与抛釉产品配套销售的要求。

采用第二种技术方案时，在烧成后的光滑表面进行粗抛处理，得到类似磨砂玻璃的表面效果的柔光砖，其表面存在较多较深的弧形抛花，导致釉面的防污性能差，并且还有光泽均匀度差的缺陷，也难于满足高标准的客户的质量要求。

发明内容

针对上述问题，本发明的第一目的在于提出一种柔光耐磨防滑釉面砖，表面有磨砂干粒形成的微凸颗粒，既可以降低釉面的光泽度，又可以具有耐磨性能和防滑性能。

本发明的另一目的在于提出一种柔光耐磨防滑釉面砖的制备方法，采用磨砂干粒釉和抛釉分两次喷施的工艺，使釉面的光泽度降低。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种柔光耐磨防滑釉面砖，包括由上至下依次分布的磨砂干粒釉层、抛釉层、图案层、底釉层和砖坯体；

所述磨砂干粒釉层由磨砂干粒釉烧制而成，所述磨砂干粒釉层包括均匀分布于所述抛釉层表面的磨砂干粒，所述磨砂干粒的底部与所述抛釉层熔接为一体，所述磨砂干粒的顶部突出于所述抛釉层表面；所述柔光耐磨防滑釉面砖的光泽度跟随所述磨砂干粒釉的施釉量的增加而降低；

按照重量份数计算，所述磨砂干粒的原料包括石英粉40-50份、氧化铝粉19-27份、硝酸钾2-5.5份、碳酸钠4-9份、石灰石粉5-7份、碳酸镁1-3份、碳酸钡18-22份、氧化锌7-12份和碳酸锶5-7份。

进一步的，按照重量份数计算，抛釉的原料包括钠长石5-10份、钾长石10-20份、霞石粉5-10份、煅烧高岭土10-15份、石英10-15份、高岭土6-10份、烧滑石粉5-12份、硅灰石20-30份、氧化锌3-6份、碳酸钡2-5份、碳酸锶2-5份和透明熔块15-30份。