[发明专利]一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备

说明书

本发明公开了一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，包括载气气路D、调节气路C、工作气路B和测量气路E；载气气路D和调节气路C并接，工作气路B和测量气路E并接且均连接在载气气路D和调节气路C的输出端；所述测量气路E包括测量阀Z3和连接在测量阀Z3输出端的气体浓度测量装置5，本发明的掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，利用朗伯比尔定律对载气中Cr(CO)₆含量进行检测，及时地了解LCVD载气浓度及载气中Cr(CO)₆含量，当载气浓度及载气中Cr(CO)₆含量降低或者升高时，可以通过调整气体配比使气体浓度在规格范围内，保证了沉积的薄膜致密性。

技术领域

本发明属于掩膜版镀膜设备领域，更具体的说涉及一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备。

背景技术

掩膜版也叫Mask或者光罩，作为一种图形的载体，通过显影蚀刻等工艺形成所需的图形，再通过曝光机将图形转移到显示基板上。在掩膜版表面一般镀有一层100nm厚度的铬(Cr)膜，由于工艺原因，部分Cr层会缺失，产生少Cr缺陷，少Cr位置会导致曝光时漏光，造成产品在使用时不需要曝光的地方产生曝光。一般地，上述这种缺陷需要是使用LCVD(Laserchemicalvapordeposition，激光化学气相沉积)设备来修补。LCVD修补空白缺陷一般是先通过加热修补材料六羰基铬(Cr(CO)₆)，这种物质一般在40°会升华成气体，再通过氩气(Ar)作为载体和保护气，将含有Cr(CO)₆的载气(载气中含有升华的Cr(CO)₆和氩气)送到需要修补的缺陷处，经一束特定波长的激光照射后，Cr(CO)₆气体分子发生光降解和热降解反应，形成一层100nm左右厚度的Cr膜覆盖在缺陷处，从而实现对空白缺陷的修复。

由于在Cr膜形成过程中，一些工艺参数如激光功率、反应气体温度、反应气体流量等条件非常敏感，参数的不稳定会导致形成的Cr膜不够致密，造成Cr膜轻微透光或者粘附力不佳脱落。其中含Cr(CO)₆载气对薄膜的形成非常敏感，目前常规的LCVD设备气路中只有流量计监测载气流量，并不能对载气中Cr(CO)₆含量进行监测，当粉罐中的Cr粉量随使用减少后，载气中Cr(CO)₆含量降低时，不能及时发现，影响LCVD的沉积效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，利用朗伯比尔定律对载气中Cr(CO)₆含量进行检测，及时地了解LCVD载气浓度及载气中Cr(CO)₆含量，当载气浓度及载气中Cr(CO)₆含量降低或者升高时，可以通过调整气体配比使气体浓度在规格范围内，保证了沉积的薄膜致密性，不会发生透光和脱落影响产品品质。

本发明技术方案一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，包括并接且均与保护气罐(1)的出口连通的载气气路(D)和调节气路(C)，还包括工作气路(B)和测量气路(E)；所述工作气路(B)和测量气路(E)并接且均连接在载气气路(D)和调节气路(C)的输出端；

所述载气气路(D)包括与保护气罐(1)的出口连接的载气流量计(F1)和连接在载气流量计(F1)后部的含铬粉罐(2)；

所述调节气路(C)包括与保护气罐(1)的出口连接的调节气流量计(F2)；

所述工作气路(B)包括镀膜阀(Z1)和与镀膜阀(Z1)出口连接的掩膜版镀膜装置(4)；镀膜阀(Z1)的进口通过第一三通(B1)与含铬粉罐(2)的出口和调节气路(C)输出端连接；所述调节气路(C)输出端通过节流阀(Z2)与第一三通(B1)连接；

所述测量气路(E)包括测量阀(Z3)和连接在测量阀(Z3)输出端的气体浓度测量装置(5)；所述测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与载气气路(D)和调节气路(C)的输出端连接；