[发明专利]一种拓扑生成方法、装置及存储介质有效

专利信息
申请号: 202210738460.9 申请日: 2022-06-27
公开(公告)号: CN115022186B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 韩赛;王光全;方遒铿;马红兵 申请(专利权)人: 中国联合网络通信集团有限公司
主分类号: H04L41/12 分类号: H04L41/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100033 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 拓扑 生成 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种拓扑生成方法,其特征在于,包括:

获取M个第一序列和N个第二序列;所述M个第一序列对应M个第一端口;所述N个序列对应N个第二端口;第i个第一序列包括在预设时间段内,按照预设规则排序的第i个第一端口的第一端口参数;第j个第二序列包括在所述预设时间段内,按照所述预设规则排序的第j个第二端口的第二端口参数;M和N为正整数;i为小于或者等于M的正整数;j为小于或者等于N的正整数;

对所述M个第一端口中的每个第一端口执行第一操作,以得到与所述第一端口具有连接关系的端口;所述第一操作包括:根据与所述第一端口对应的第一序列中的第一端口参数、所述N个第二序列中的第二端口参数和第一算法,从所述N个第二序列中,确定与所述第一序列的相似度大于或者等于第二阈值的G个第二序列,并根据所述第一序列中的第一端口参数、所述G个第二序列中的第二端口参数和第二算法,确定与所述第一序列的相似度大于或者等于第一阈值的H个第二序列,并将与所述H个第二序列一一对应的H个第二端口确定为与所述第一端口具有连接关系的端口;H为小于或者等于N的正整数;所述第二阈值小于所述第一阈值;G为大于或者等于H、且小于或者等于N的正整数;当所述预设规则包括按照采样时刻排序时,所述第一算法用于确定两个序列之间的目标距离;所述目标距离包括:平均值距离或者最大值距离;所述第二算法包括:动态时间调整DTW算法;

对于每个所述第一端口,根据所述第一端口以及与所述第一端口具有连接关系的端口,生成所述第一端口的拓扑连接。

2.根据权利要求1所述的拓扑生成方法,其特征在于,还包括:

当与所述第i个第一端口具有连接关系的端口,包括与第k个第一端口具有连接关系的端口时,生成包括所述第i个第一端口和所述第k个第一端口的环状拓扑;k为小于或者等于M、且不等于i的正整数。

3.根据权利要求1所述的拓扑生成方法,其特征在于,所述获取M个第一序列和N个第二序列,包括:

对每个所述第一端口执行第二操作,以得到所述M个第一序列中与所述第一端口对应的第一序列;所述第二操作包括:将所述第一端口在所述预设时间段内的多个第一周期一一对应的第一端口参数按照所述预设规则排序,对排序后的第一端口参数执行预处理,得到所述第一序列;所述预处理用于删除异常数据;

对所述N个第二端口中的每个第二端口执行第三操作,以得到所述N个第二序列中与所述第二端口对应的第二序列;所述第三操作包括:将所述第二端口在所述预设时间段内的多个第二周期一一对应的第二端口参数按照所述预设规则排序,对排序后的第二端口参数执行所述预处理,得到所述第二序列。

4.根据权利要求3所述的拓扑生成方法,其特征在于,所述预处理包括:

确定目标端口参数的平均值和方差,并根据所述平均值和所述方差,确定取值区间;删除所述目标端口参数中不属于所述取值区间的所述异常数据;所述目标端口参数包括:所述排序后的第一端口参数,以及所述排序后的第二端口参数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国联合网络通信集团有限公司,未经中国联合网络通信集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210738460.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top