[发明专利]蒸发镀膜装置及其镀膜方法

说明书

本申请公开了一种蒸发镀膜装置，蒸发镀膜装置包括蒸镀腔体、蒸镀源、多个蒸镀锅、蒸镀锅公转驱动组件和蒸镀锅自转驱动组件；蒸镀源设置在蒸镀腔体的底部，蒸镀锅公转驱动组件设置在蒸镀腔体的顶部，驱动多个蒸镀锅围绕蒸镀源的中心线进行公转；蒸镀锅自转驱动组件的一端与蒸镀锅公转驱动组件连接，另一端与蒸镀锅传动连接，控制蒸镀锅进行自转；其中，蒸镀锅公转驱动组件和蒸镀锅自转驱动组件分别独立控制蒸镀锅的公转和自转。本申请通过设置直接与蒸镀锅连接的蒸镀锅自转驱动组件控制蒸镀锅进行自转，无需设置带动蒸镀锅自转的轨道，避免蒸镀锅转动时与轨道摩擦产生金属碎屑，降低产品的综合良率。

技术领域

本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发镀膜装置及其镀膜方法。

背景技术

蒸镀，就是将蒸镀材升华后，使其附着在被镀物表面形成薄膜，属于物理沉积的一种，具体为将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，而后气体分子蒸镀材料在真空环境中运动附着在待蒸镀物表面，从而在待蒸镀物表面形成薄膜的过程。

使用现有的蒸镀设备对晶圆进行蒸镀时，将晶圆放置在蒸镀锅上，蒸镀锅在自转马达的带动下，自转加公转运动，从而带动晶圆自转加公转运动，为了实现蒸镀锅的自转，在蒸镀腔体内装有带动蒸镀锅自转的轨道，但是蒸镀锅转动时容易与轨道摩擦产生金属碎屑，降低产品的综合良率。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的是提供一种蒸发镀膜装置及其镀膜方法，用于解决蒸镀锅与轨道摩擦产生碎屑的问题，提高产品的综合良率。

为了实现上述目的，本申请提供了一种蒸发镀膜装置，蒸发镀膜装置包括蒸镀腔体、蒸镀源、多个蒸镀锅、蒸镀锅公转驱动组件和蒸镀锅自转驱动组件；所述蒸镀源设置在所述蒸镀腔体的底部，用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成蒸镀区域；所述多个蒸镀锅对应所述蒸镀区域设置；所述蒸镀锅公转驱动组件设置在所述蒸镀腔体的顶部，驱动多个所述蒸镀锅围绕所述蒸镀源的中心线进行公转；所述蒸镀锅自转驱动组件的一端与所述蒸镀锅公转驱动组件固定连接，另一端与所述蒸镀锅传动连接，控制所述蒸镀锅进行自转；其中，所述蒸镀锅公转驱动组件和所述蒸镀锅自转驱动组件分别独立控制所述蒸镀锅的公转和自转。

可选地，所述蒸镀锅公转驱动组件包括设置在所述蒸镀腔体顶部的公转电机、与所述公转电机驱动连接的行星盘以及与所述行星盘连接的第一支撑臂；所述蒸镀锅自转驱动组件包括自转电机以及第二支撑臂，所述自转电机一端与所述第一支撑臂连接，另一端与所述第二支撑臂连接；所述第二支撑臂一端与所述自转电机连接，另一端与所述蒸镀锅固定连接。

可选地，所述行星盘设置有三个第一支撑臂，所述第一支撑臂的数量与所述蒸镀锅的数量相同，三个所述第一支撑臂间距相等，三个所述第一支撑臂对应的三个所述蒸镀锅成等边三角形设置，三个所述蒸镀锅中的任意两个蒸镀锅之间的夹角相等，且所述夹角小于等于120度，大于等于30度。

可选地，所述自转电机包括自转轴，所述蒸镀锅设置有凹槽，所述自转轴穿过所述凹槽与一螺丝固定；所述自转轴上设置有无油陶瓷轴套，所述无油陶瓷轴套套设在所述自转轴上，且所述无油陶瓷轴套放置在所述凹槽内。

可选地，多个所述蒸镀锅的大小相同，大小相同的每个所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有不同大小的晶圆；或多个所述蒸镀锅的大小不同，大小不同的所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有不同大小的晶圆，同一所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有相同大小的晶圆。

本申请还提供了一种蒸发镀膜装置的镀膜方法，用于上述任一所述的蒸发镀膜装置，包括步骤：

使蒸镀锅公转驱动组件运行工作，带动多个所述蒸镀锅以所述蒸镀源为中心进行公转；以及

使蒸镀锅自转驱动组件运行工作，带动对应的所述蒸镀锅以所述蒸镀锅的中心为圆心进行自转；

其中，所述蒸镀锅自转驱动组件一端与所述蒸镀锅公转驱动组件连接，另一端与所述蒸镀锅传动连接，控制所述蒸镀锅进行自转；