[发明专利]蒸发镀膜装置及其镀膜方法

权利要求书

1.一种蒸发镀膜装置，包括：

蒸镀腔体；

蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部，用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成蒸镀区域；以及

多个蒸镀锅，对应所述蒸镀区域设置；

其特征在于，所述蒸发镀膜装置还包括：

蒸镀锅公转驱动组件，设置在所述蒸镀腔体的顶部，驱动多个所述蒸镀锅围绕所述蒸镀源的中心线进行公转；以及

蒸镀锅自转驱动组件，一端与所述蒸镀锅公转驱动组件固定连接，另一端与所述蒸镀锅传动连接，控制所述蒸镀锅进行自转；

其中，所述蒸镀锅公转驱动组件和所述蒸镀锅自转驱动组件分别独立控制所述蒸镀锅的公转和自转。

2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述蒸镀锅公转驱动组件包括设置在所述蒸镀腔体顶部的公转电机、与所述公转电机驱动连接的行星盘以及与所述行星盘连接的第一支撑臂；

所述蒸镀锅自转驱动组件包括自转电机以及第二支撑臂，所述自转电机一端与所述第一支撑臂连接，另一端与所述第二支撑臂连接；所述第二支撑臂一端与所述自转电机连接，另一端与所述蒸镀锅固定连接。

3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述行星盘设置有三个第一支撑臂，所述第一支撑臂的数量与所述蒸镀锅的数量相同，三个所述第一支撑臂间距相等，三个所述第一支撑臂对应的三个所述蒸镀锅成等边三角形设置，三个所述蒸镀锅中的任意两个蒸镀锅之间的夹角相等，且所述夹角小于等于120度，大于等于30度。

4.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述自转电机包括自转轴，所述蒸镀锅设置有凹槽，所述自转轴穿过所述凹槽与一螺丝固定；所述自转轴上设置有无油陶瓷轴套，所述无油陶瓷轴套套设在所述自转轴上，且所述无油陶瓷轴套放置在所述凹槽内。

5.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，多个所述蒸镀锅的大小相同，大小相同的每个所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有不同大小的晶圆；

或多个所述蒸镀锅的大小不同，大小不同的所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有不同大小的晶圆，同一所述蒸镀锅朝向所述蒸镀源的一面内设有相同大小的晶圆。

6.一种蒸发镀膜装置的镀膜方法，用于上述权利要求1-5任意一项所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，包括步骤：

使蒸镀锅公转驱动组件运行工作，带动多个所述蒸镀锅以所述蒸镀源为中心进行公转；以及

使蒸镀锅自转驱动组件运行工作，带动对应的所述蒸镀锅以所述蒸镀锅的中心为圆心进行自转；

其中，所述蒸镀锅自转驱动组件一端与所述蒸镀锅公转驱动组件连接，另一端与所述蒸镀锅传动连接，控制所述蒸镀锅进行自转；

所述蒸镀锅公转驱动组件和所述蒸镀锅自转驱动组件分别独立控制所述蒸镀锅的公转和自转。

7.根据权利要求6所述的蒸膜方法，其特征在于，在所述使蒸镀锅自转驱动组件运行工作，带动对应的所述蒸镀锅以所述蒸镀锅的中心为圆心进行自转的步骤中包括：

每个所述使蒸镀锅自转驱动组件控制对应的每个所述蒸镀锅的自转速度不同；

其中，每个所述蒸镀锅上的晶圆的大小不同。

8.根据权利要求7所述的蒸膜方法，其特征在于，所述每个所述使蒸镀锅自转驱动组件控制对应的每个所述蒸镀锅的自转速度不同的步骤中包括：

在达到预设时间后，所述蒸镀锅的自转方向自动调整变换；

其中，所述预设时间的时长小于等于所述晶圆成膜作业总时长的1/2。

9.根据权利要求6所述的蒸膜方法，其特征在于，所述使蒸镀锅自转驱动组件运行工作，带动对应的所述蒸镀锅以所述蒸镀锅的中心为圆心进行自转的步骤中包括：

每个所述使蒸镀锅自转驱动组件控制对应的每个所述蒸镀锅的自转速度达到预设转速的时间不同；

其中，多个所述蒸锅中，体积小的所述蒸镀锅达到所述预设速度的时间小于体积大的所述蒸镀锅达到所述预设速度的时间。

10.根据权利要求9所述的蒸膜方法，其特征在于，所述预设转速的取值范围为10rad/min至20rad/min。