[发明专利]工艺气体引入组件在审
| 申请号: | 202210690142.X | 申请日: | 2022-06-17 |
| 公开(公告)号: | CN115369381A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
| 发明(设计)人: | 郑锦;李立松;刘松;王建光;胡克文 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
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| 地址: | 210000 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 工艺 气体 引入 组件 | ||
1.一种工艺气体引入组件,包括有真空连接件主体,所述真空连接件主体的上端部分布有进气管道,其特征在于,还包括有真空连接件进源机构,所述真空连接件进源机构的上端部与真空连接件主体的下端部密封固定连接,同时所述真空连接件进源机构的内部与真空连接件主体的内部相通。
2.根据权利要求1所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述真空连接件主体的内部开设有气源传输孔道,所述气源传输孔道贯穿真空连接件主体的底部,并与所述进气管道、真空连接件进源机构相连通。
3.根据权利要求1或2所述的工艺气体引入组件,其特征在于,还包括有吹扫管道,所述吹扫管道设置在进气管道的一侧,同时所述吹扫管道的一端通过吹扫传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通,所述吹扫传输孔道设置在真空连接件主体的内部。
4.根据权利要求3所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述进气管道包括有A源进气管道和B源进气管道,所述A源进气管道和B源进气管道分别分布在真空连接件进源机构的上端部两侧,所述A源进气管道和B源进气管道均通过气源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。
5.根据权利要求4所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述气源传输孔道包括有A源传输孔道和B源传输孔道,所述A源进气管道通过A源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通,所述B源进气管道通过B源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。
6.根据权利要求4所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述真空连接件进源机构包括有真空连接件过渡板和进源管道,所述进源管道焊接在真空连接件过渡板的下端,且所述真空连接件过渡板和进源管道之间相通;
所述A源进气管道和B源进气管道均通过气源传输孔道和真空连接件过渡板与进源管道相通,所述吹扫管道通过吹扫传输孔道与真空连接件过渡板相通。
7.根据权利要求6所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述真空连接件过渡板上开设有A源通孔、B源通孔和吹扫通孔,所述A源通孔设置在B源通孔的一侧,所述吹扫通孔环形分布在A源通孔和B源通孔的外侧;
所述A源进气管道与A源通孔相通,所述B源进气管道与B源通孔相通,所述吹扫管道与吹扫通孔相通。
8.根据权利要求7所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述A源通孔和B源通孔的端部均设置有反应源密封环道,所述吹扫通孔的端部设置有吹扫密封环道。
9.根据权利要求8所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述反应源密封环道内设置有反应源密封圈,所述吹扫密封环道内设置有吹扫密封圈。
10.根据权利要求6所述的工艺气体引入组件,其特征在于,所述进源管道包括有A源管道和B源管道,所述A源管道和B源管道之间相互平行,所述A源进气管道和A源管道之间相通,所述B源进气管道和B源管道之间相通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





